[实用新型]一种新型双层分数槽集中绕组有效
申请号: | 201922003834.9 | 申请日: | 2019-11-19 |
公开(公告)号: | CN210806890U | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 杨凯;胡林伟;徐百川;李天乐;余文毅;徐蕴镠;孙宋君 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H02K3/28 | 分类号: | H02K3/28 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 李佑宏 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 双层 分数 集中 绕组 | ||
1.一种新型双层分数槽集中绕组,其特征在于,
所述集中绕组的任一相位的其中一层绕组的正相带槽位包括第一槽位和第二槽位,其中,所述第一槽位为三相对称双层绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的正相带槽位,所述第二槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的正相带槽位沿槽位相位图的正方向的后一个槽位;
所述集中绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的负相带槽位包括第三槽位,其中,所述第三槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的负相带槽位沿槽位相位图的正方向删除第一个槽位;
所述集中绕组的所述任一相位的另一层绕组的正相带槽位包括第四槽位,其中,所述第四槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的正相带槽位沿槽位相位图的正方向删除最后一个槽位;
所述集中绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的负相带槽位包括第五槽位和第六槽位,其中,所述第五槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的负相带槽位,所述第六槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的负相带槽位沿槽位相位图的正方向的后一个槽位。
2.根据权利要求1所述的一种新型双层分数槽集中绕组,其特征在于,所述集中绕组的任一相位的正相带和负相带槽位内导体进行串联或并联得到所述任一相位的绕组。
3.根据权利要求1或2所述的一种新型双层分数槽集中绕组,其特征在于,所述集中绕组的单元电机数为偶数个的极槽配合。
4.根据权利要求1所述的一种新型双层分数槽集中绕组,其特征在于,所述集中绕组为10极12槽时,其槽位自左向右自上向下的内导体相位分布为:A、A、-A、B、-B、C、-C、-C、C、C、-C、A、-A、B、-B、-B、B、B、-B、C、-C、A、-A和-A。
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