[实用新型]一种等离子刻蚀机的匀气盘

权利要求书

1.一种等离子刻蚀机的匀气盘，包括匀气盘本体(1)，其特征在于：所述匀气盘本体(1)内部包括有固定盘(2)，所述固定盘(2)内部开设有中透气孔(3)，所述固定盘(2)内部开设有第一调气孔(4)，且第一调气孔(4)位于中透气孔(3)外侧，所述固定盘(2)上端固定连接有导风块(5)，且导风块(5)位于第一调气孔(4)外侧，所述导风块(5)相互之间预留有导风槽(6)，所述固定盘(2)下端开设有活动槽(7)，所述固定盘(2)内部开设有定位槽(8)，且定位槽(8)与活动槽(7)内部相互连通，所述活动槽(7)内部活动连接有活动块(9)，所述活动块(9)外侧固定连接有定位滑块(10)，且定位滑块(10)与定位槽(8)滑动连接，所述定位滑块(10)下端固定连接有调节盘(11)，所述调节盘(11)内部从内至外依次开设有中透气孔(3)与第二调气孔(12)，所述调节盘(11)边缘内部开设有通孔(13)，所述固定盘(2)边缘内部开设有固定孔(14)。

2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的匀气盘，其特征在于：所述固定盘(2)与调节盘(11)均为圆盘形结构，且固定盘(2)与调节盘(11)的直径相等，所述固定盘(2)与调节盘(11)内部的中透气孔(3)环形等间距分布。

3.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的匀气盘，其特征在于：所述第一调气孔(4)在固定盘(2)内部环形等间距分布，且第一调气孔(4)与第二调气孔(12)的规格一致。

4.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的匀气盘，其特征在于：所述导风块(5)在固定盘(2)上端环形等间距分布有三组，且导风块(5)外侧与第一调气孔(4)和固定孔(14)不贴合。

5.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的匀气盘，其特征在于：所述活动块(9)与活动槽(7)采用表面光滑设计，且活动块(9)外侧定位滑块(10)在活动块(9)内侧和外侧两端分布，所述定位滑块(10)与定位槽(8)对应分布。

6.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的匀气盘，其特征在于：所述通孔(13)与固定孔(14)对应分布，且通孔(13)的直径大于固定孔(14)的直径。