[实用新型]液体处理设备及液体处理系统

权利要求书

1.一种液体处理设备，对沿流路流过所述液体处理设备的液体进行处理，其特征在于，所述液体处理设备包括调压装置、过滤装置和磁化装置，所述调压装置、所述过滤装置和所述磁化装置沿所述流路设置，从而液体能够沿所述流路经过所述调压装置、所述过滤装置和所述磁化装置，其中，

所述调压装置设置在所述过滤装置的上游侧，并对输入所述调压装置的液体进行调压以调节液体的压力且输出调压后的液体；

所述过滤装置设置在所述调压装置的下游侧及所述磁化装置的上游侧，并对调压后的液体进行过滤从而去除液体中的杂质且输出过滤后的液体；以及

所述磁化装置设置在所述过滤装置的下游侧，并对过滤后的液体进行磁化处理且输出磁化处理后的液体。

2.根据权利要求1所述的液体处理设备，其特征在于，还包括杂质存储装置，所述杂质存储装置设置在所述过滤装置的下方，以接收且存储所述过滤装置从液体中去除的杂质。

3.根据权利要求2所述的液体处理设备，其特征在于，所述杂质存储装置设置有排出口，所述排出口能够被打开以将所述杂质存储装置中存储的杂质排出。

4.根据权利要求1所述的液体处理设备，其特征在于，所述调压装置根据所述液体处理设备提供的预定液体流量对输入所述调压装置的液体进行调压。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的液体处理设备，其特征在于，还包括压力传感器，

所述压力传感器设置在所述调压装置中以检测所述调压装置中的液体的压力；和/或

所述压力传感器设置在所述调压装置的上游侧以检测所述调压装置的上游侧的液体的压力；和/或

所述压力传感器设置在所述调压装置的下游侧以检测所述调压装置的下游侧的液体的压力。

6.根据权利要求5所述的液体处理设备，其特征在于，所述液体处理设备的液体供应源包括两个或两个以上，所述液体处理设备根据所述压力传感器检测的液体压力来设定液体供应源，以设定两个或两个以上的液体供应源中的一个液体供应源来供应输入所述液体处理设备的液体。

7.根据权利要求5所述的液体处理设备，其特征在于，所述液体为水，并且液体供应源包括自来水管网供应源及蓄水供应源，所述液体处理设备根据所述压力传感器检测的液体压力来设定液体供应源，以设定所述自来水管网供应源及蓄水供应源中的一个液体供应源来供应输入所述液体处理设备的液体。

8.根据权利要求7所述的液体处理设备，其特征在于，

当所述自来水网供应源的压力小于预先设定的压力阈值时，所述液体供应源设为蓄水供应源，

当所述自来水网供应源的压力大于或等于所述压力阈值时，所述液体供应源设为自来水网供应源。

9.根据权利要求7或8所述的液体处理设备，其特征在于，当所述液体供应源为自来水网供应源且所述自来水网供应源的压力满足所述液体处理设备的供水需求量时，所述调压装置停止工作，来自所述自来水网供应源的水直接输入所述过滤装置。

10.根据权利要求7或8所述的液体处理设备，其特征在于，当所述调压设备停止工作时，来自所述自来水网供应源的水直接输入所述过滤装置。

11.根据权利要求1-4及6-8中任一项所述的液体处理设备，其特征在于，还包括流量传感器，所述流量传感器设置在流路中，以检测流过流路的液体的流量。

12.根据权利要求11所述的液体处理设备，其特征在于，所述流量传感器设置在所述调压装置的下游侧。

13.根据权利要求12所述的液体处理设备，其特征在于，所述调压装置基于所述流量传感器检测的流过流路的液体的流量以及所述液体处理设备提供的预定液体流量对输入所述调压装置的液体进行调压。