[实用新型]一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置有效

专利信息
申请号: 201922048162.3 申请日: 2019-11-22
公开(公告)号: CN210995427U 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 韩亚群;赵佳琦;鞠军伟;王兴雷;陈立新;牛平平;曹芳芳 申请(专利权)人: 日照海恩锯业有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;C23G3/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 赵敏玲
地址: 276800 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 规格 圆锯 基体 氧化 去除 装置
【说明书】:

本申请公开了一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置,包括沿生产线轨道布置的支架,所述支架上安装有第一排液管和第二排液管,用于分别向基体上部和下部喷洒溶液,所述支架上布置有滑轨,所述滑轨通过滑块配合有竖直布置的固定杆,所述固定杆上设有第一刮板,用于通过转动刮去喷洒溶液后基体上的氧化层,所述机架上安装有第二刮板,所述第二刮板与第一刮板相对设置,用于在固定杆沿滑轨移动时与基体产生相对位移,并刮去基体上远离第一刮板一侧的喷洒溶液后氧化层,通过将腐蚀溶液施加在基体上,对基体上的氧化层进行腐蚀去除,并配合刮板进行物理刮动,利用初步腐蚀配合深度刮动达到对锯片基体上氧化层的完全去除。

技术领域

本申请涉及锯片制造领域,特别涉及一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置。

背景技术

随着圆锯片的广泛使用,行业对其生产精度要求越来越高。但是,圆锯片基体淬火工序结束后,会在表面产生大量的氧化层,如果这些氧化层不能及时去除,会越积越多,严重影响圆锯片基体质量。

发明人发现,目前常用的去除圆锯片基体表面氧化层的方法有化学腐蚀法和物理清理法,化学腐蚀法即通过将基体浸泡在化学溶液中,利用化学溶液将外部的氧化层腐蚀去除,然后通过清洗获取符合后续加工程序的基体;但这种腐蚀方式化学溶液的量远远大于基体反应所需的量,容易导致过度腐蚀,即在氧化层腐蚀去除后,若未及时取出,内部基体会受到溶液进一步的腐蚀,从而导致内部基体的损伤;而物理清理法即人工采用毛刷或砂轮等工具,通过打磨的方式去除氧化层,但这种处理方法不仅效率低下,而且打磨过程中产生的粉末、扬尘飞溅,危害工作人员的身体健康,无法精确掌握打磨深度,只能够通过经验来判断,导致打磨后获得的基体精度难以满足后续的处理要求。

实用新型内容

本申请的目的是针对现有技术存在的缺陷,提供一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置,通过将定量的腐蚀溶液施加在基体上,对基体上的氧化层进行腐蚀去除,并配合刮板进行物理刮动,利用初步腐蚀配合深度刮动达到对锯片基体上氧化层的完全去除,在不损伤内部基体的前提下,提高了对基体上氧化层的去除效率和去除效果。

为了实现上述目的,采用以下技术方案:

一种多规格圆锯片基体氧化层去除装置,包括沿生产线轨道布置的支架,所述支架上安装有第一排液管和第二排液管,用于分别向基体上部和下部喷洒溶液,所述支架上布置有滑轨,所述滑轨通过滑块配合有竖直布置的固定杆,所述固定杆远离滑块的一端设有助推杆,所述助推杆用于通过伸缩进入或脱离基体中心孔,所述固定杆上设有第一刮板,用于通过转动刮去喷洒溶液后基体上的氧化层,所述机架上安装有第二刮板,所述第二刮板与第一刮板相对设置,用于在固定杆沿滑轨移动时与基体产生相对位移,并刮去基体上远离第一刮板一侧的喷洒溶液后氧化层。

进一步地,所述支架为门型结构,骑跨在生产线轨道上,所述支架包括上支架和下支架,所述上支架和下支架之间通过支撑杆连接,下支架用于固定在生产轨道的两侧。

进一步地,所述支撑杆一端固定在上支架上,另一端与下支架上预设的开孔形成滑动副,用于通过滑动调节上支架的高度。

进一步地,所述滑轨沿生产线轨道运行方向布置在上支架上,所述第一刮板通过固定杆悬吊在滑轨下方,用于接触并通过转动处理基体顶面的氧化层,所述助推杆用于配合基体中心孔并带动基体沿生产线轨道方向移动。

进一步地,所述第二刮板固定在第一刮板的下方,第一刮板和第二刮板之间留有间隙,所述第二刮板用于接触并刮去基体底面的氧化层。

进一步地,所述第一排液管和第二排液管上分别设有多个排液孔,用于将第一排液管和第二排液管内的溶液均匀喷涂在基体的上表面和下表面上。

进一步地,所述第一排液管和第二排液管分别连通有溶液箱,用于为第一排液管和第二排液管供应溶液;所述第一排液管和第二排液管的两端还分别连接有加长管,用于喷洒覆盖不同直径规格的基体。

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