[实用新型]一种自清洁反应釜有效

专利信息
申请号: 201922055173.4 申请日: 2019-11-25
公开(公告)号: CN212549502U 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 陈玉红 申请(专利权)人: 河北化工医药职业技术学院
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18;B08B9/087;B08B9/093
代理公司: 石家庄旭昌知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 13126 代理人: 彭随丽
地址: 050000 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洁 反应
【说明书】:

实用新型提供了一种自清洁反应釜,其包括搅拌装置和清洗装置,其中,搅拌装置包括转动设于反应釜壳体内的搅拌轴,于搅拌轴上设有多个第一搅拌杆和第二搅拌杆,在第二搅拌杆的自由端固连有清洁板,清洁板朝向内壁的一侧呈尖状;清洗装置包括主输水通道,于各搅拌杆内与主输水通道连通的第一支输水通道及构造于各清洁板内的第二支输水通道,并于清洁板上设有多个第一喷洗孔,于第一搅拌杆自由端设有第二喷洗孔,且于反应釜壳体外设有输出清洗液的供水部。本实用新型所述的自清洁反应釜,通过构造尖状的清洁板,使反应釜在工作过程中清洁板可刮落内壁附落的搅拌物;并通过构造清洁装置,可进一步冲洗反应釜内壁上的附着物,提升反应釜的清洁效果。

技术领域

本实用新型涉及化工反应釜领域,特别涉及一种自清洁反应釜。

背景技术

反应釜是化工反应设备中的重要设备,反应釜的清洁度直接影响反应产物的质量。

在反应釜中,有些反应为固液反应,刚开始反应时并不能完全溶解,是随着反应的进行慢慢溶解消散,且有些反应过程中能产生沉淀,这些反应在搅拌反应时,固定物料往往会飞溅到反应釜内壁上,形成附着在反应釜内壁上的污垢,如果不清洗干净,很容易对下一次反应造成污染。

现有的反应釜内的残留物主要是定期清洗来去除;清洗时,需通过将釜体和釜盖拆开,清洗一次拆装一次,拆装繁琐,在拆装过程中还容易发生损坏内部器件的事件,耽误生产,增加了维修成本;同时,现有的反应釜中搅拌轴一般设于反应釜底部,不能很好的形成搅拌效果,并使其充分搅拌反应,影响反应效率。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型旨在提出一种自清洁反应釜,以便于对反应釜进行清洗,并具有较好的使用效果。

为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:

一种自清洗反应釜,包括反应釜壳体,于所述反应釜壳体的顶部设有进料口,于所述反应釜壳体的底部分别设有出料口和出液口;所述自清洗反应釜还包括:

搅拌装置,包括转动设于所述反应釜壳体的容腔内、且底端伸出所述反应釜壳体的搅拌轴,和安装于所述反应釜壳体的顶部以驱使所述搅拌轴转到的驱动部;并于所述搅拌轴的底部设有环其周向间隔布置的多个第一搅拌杆,于所述搅拌轴上设有位于所述第一搅拌杆上方、并环所述搅拌轴的周向间隔布置的一组第二搅拌杆,在各所述第二搅拌杆的自由端固连有靠近于所述反应釜壳体的内壁布置的清洁板,所述清洁板的朝向所述内壁的一侧呈尖状;

清洗装置,包括构造于所述搅拌轴内的主输水通道,和设于各所述第一搅拌杆和所述第二搅拌杆内、并与所述主输水通道连通的第一支输水通道,以及构造于各所述清洁板内、并与所述第一支输水通道连通的第二支输水通道,并于所述清洁板上设有朝向所述反应釜壳体的内壁布置的多个第一喷洗孔,于所述第一搅拌杆的自由端设有第二喷洗孔,且于所述反应釜壳体外设有与所述主输水通道的底部连通以输出清洗液的供水部。

进一步地,所述清洁板的横截面呈三角形,各所述第一喷洗孔位于清洁板的两侧面上、并沿所述清洁板的高度方向间隔布置。

进一步地,所述第二搅拌杆为沿所述搅拌轴的轴向间隔布置的两组,且各所述清洁板连接在上下对应布置的两所述第二搅拌杆上。

进一步地,于上下对应布置的两所述第二搅拌杆之间设有加强杆。

进一步地,所述第一搅拌杆呈横置的“Y”字形。

进一步地,于各所述清洁板的顶端设有上喷洗孔,于其底端设有下喷洗孔,且所述上喷洗孔的孔径小于所述下喷洗孔。

进一步地,于各所述清洁板的顶端设有位于所述上喷洗孔上方的挡罩。

进一步地,于所述反应釜壳体外套设有保温壳体,并于所述保温壳体和所述反应釜壳体件填充有保温材料。

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