[实用新型]一种基于静电吸附的托盘固定结构有效
申请号: | 201922055553.8 | 申请日: | 2019-11-25 |
公开(公告)号: | CN211125619U | 公开(公告)日: | 2020-07-28 |
发明(设计)人: | 张洋洋;于玉斋;丁建峰;魏明德 | 申请(专利权)人: | 徐州同鑫光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人: | 陈鹏 |
地址: | 221000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 静电 吸附 托盘 固定 结构 | ||
本实用新型公开一种基于静电吸附的托盘固定结构,包括加热平台,还包括安装在加热平台上的静电吸附装置;所述静电吸附装置包括陶瓷托盘、用于吸附陶瓷托盘的柔性电极,所述陶瓷托盘上开有若干晶圆孔,所述柔性电极内设有能产生吸附静电的电极板,所述电极板外接电源。本实用新型采用陶瓷托盘和柔性电极配合,通过柔性电极内的电极板通电产生吸附静电,将陶瓷托盘、晶圆进行吸附,在干法蚀刻工艺中上、下盘操作时,不需要拆卸螺丝、取放陶瓷夹具,能有效提高生产效率,降低人力成本,另外,采用本实用新型的固定结构,由于不需要进行拆卸作业,能避免引入颗粒杂质造成的产品不良。
技术领域
本实用新型涉及一种基于静电吸附的托盘固定结构,属于图形化蓝宝石衬底生产领域。
背景技术
目前,在生产PSS(图形化蓝宝石衬底)的干法蚀刻工艺中,一般使用螺丝固定晶圆的托盘(一般为金属材质),然后利用Clamp(陶瓷夹具)将托盘固定在加热平台后,再进行干法蚀刻。使用过程中,需要人员繁琐的上、下盘操作,耗费了很多人力和时间,且容易引入颗粒杂质造成产品不良。
发明内容
针对上述现有技术存在的问题,本实用新型提供一种基于静电吸附的托盘固定结构,提高了生产效率,节省了人力,降低了因引入颗粒杂质造成产品不良的情况。
为了实现上述目的,本实用新型采用的一种基于静电吸附的托盘固定结构,包括加热平台,还包括安装在加热平台上的静电吸附装置;
所述静电吸附装置包括陶瓷托盘、用于吸附陶瓷托盘的柔性电极,所述陶瓷托盘上开有若干晶圆孔,所述柔性电极内设有能产生吸附静电的电极板,所述电极板外接电源。
作为改进,所述柔性电极采用聚酰亚胺覆盖的柔性电极。
作为改进,所述柔性电极内设有氦气冷却通道。
作为改进,所述静电吸附装置通过粘结剂固定在加热平台上。
作为改进,所述加热平台上设有升降支腿,柔性电极的两端设有与升降支腿配合的支腿孔。
与现有技术相比,本实用新型采用陶瓷托盘和柔性电极配合,通过柔性电极内的电极板通电产生吸附静电,将陶瓷托盘、晶圆进行吸附,在干法蚀刻工艺中上、下盘操作时,不需要拆卸螺丝、取放陶瓷夹具,能有效提高生产效率,降低人力成本,另外,采用本实用新型的固定结构,由于不需要进行拆卸作业,能避免引入颗粒杂质造成的产品不良。
附图说明
图1为本实用新型(除去托盘)的结构示意图;
图2为图1的俯视示意图;
图3为本实用新型中托盘的结构示意图;
图4为图3的俯视图;
图中:1、柔性电极,2、电极板,3、粘结剂,4、升降支腿,5、加热平台,6、支腿孔, 7、氦气冷却通道,8、陶瓷托盘,9、晶圆孔。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了,下面对本实用新型进行进一步详细说明。但是应该理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限制本实用新型的范围。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术术语和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同,本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本实用新型。
如图1、图2、图3和图4所示,一种基于静电吸附的托盘固定结构,包括加热平台5,还包括安装在加热平台5上的静电吸附装置;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造