[实用新型]一种用于固态电容器含浸处理的离心机构及含浸装置

权利要求书

1.一种用于固态电容器含浸处理的离心机构，包括转动设置的中心转轴（2）和若干组焊接条（1），其特征在于，所述的离心机构还包括若干组与焊接条（1）相对应的多向转动组件，所述的多向转动组件包括用于驱动焊接条（1）进行左右转动的旋转器（5）以及用于驱动焊接条（1）进行上下、前后转动的机械臂（3），所述的焊接条（1）通过旋转器（5）与机械臂（3）相连，所述的机械臂（3）与中心转轴（2）相连。

2.根据权利要求1所述的一种用于固态电容器含浸处理的离心机构，其特征在于，所述的焊接条（1）上设有定位孔（11），所述的定位孔（11）上设有用于将焊接条（1）固定在旋转器（5）的旋转轴上的定位销（12）。

3.根据权利要求1所述的一种用于固态电容器含浸处理的离心机构，其特征在于，所述的机械臂（3）包括机械臂主体（31）、第三关节（34）、用于带动焊接条（1）进行上下转动的第一关节（32）以及用于带动焊接条（1）进行前后转动第二关节（33），所述的旋转器（5）通过第三关节（34）与第二关节（33）相连，所述的第二关节（33）通过第一关节（32）与机械臂主体（31）相连，所述的机械臂主体（31）与中心转轴（2）相连。

4.根据权利要求3所述的一种用于固态电容器含浸处理的离心机构，其特征在于，所述的第二关节（33）包括旋转柱（332）和固定柱（333），所述的第三关节（34）与旋转柱（332）相连，所述的旋转柱（332）与连接柱（331）进行转动连接，所述的固定柱（333）与连接柱（331）进行固定连接，所述的连接柱（331）与第一关节（32）相连。

5.根据权利要求4所述的一种用于固态电容器含浸处理的离心机构，其特征在于，所述的旋转柱（332）和固定柱（333）之间设有空隙（336），所述的空隙（336）内设有用于限制旋转柱（332）转动范围的限位组件。

6.根据权利要求5所述的一种用于固态电容器含浸处理的离心机构，其特征在于，所述的限位组件包括第一卡块（334）和以及用于限制第一卡块（334）进行转动的第二卡块（335），所述的第一卡块（334）固定在旋转柱（332）的偏心位置上，所述的第二卡块（335）固定在固定柱（333）上。

7.一种用于固态电容器含浸处理的含浸装置，包括真空槽（6）和驱动电机（8），其特征在于，所述的真空槽（6）内设有如权利要求1-6中任一项所述的离心机构，所述的驱动电机（8）通过驱动轴（7）与中心转轴（2）相连。