[实用新型]可精确定位基片架的真空室有效
| 申请号： | 201922072214.0 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN211814637U | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 娄国明;来华杭;顾子莺;谢斌斌;周海龙;俞峰 | 申请（专利权）人： | 浙江上方电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337 | 代理人： | 沈自军 |
| 地址： | 312366 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 精确 定位 基片架 真空 | ||
1.一种可精确定位基片架的真空室，所述真空室的内部设置有基片架和输送基片架的轨道，真空室相对的两侧分别设置有供基片架进出真空室的入口和出口，其特征在于，所述基片架的行进路径上设置有第一传感组件，所述基片架具有至少两个对应所述第一传感组件的感应位，在基片架行进过程中，当所述第一传感组件检测到某感应位时，基片架减小行进速度或完全停止。
2.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于，所述第一传感组件为光电传感器，光电传感器的两个组件位于轨道的两侧，所述基片架上设置有触发光电传感器的缺口。
3.根据权利要求2所述的真空室，其特征在于，所述缺口的数量为两个。
4.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于，所述轨道由多个处于同一水平直线的传动辊组成。
5.根据权利要求1或4所述的真空室，其特征在于，所述轨道的数量为并行的两条。
6.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于，所述入口和出口处分别设置有第二传感组件和第三传感组件。
7.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于，所述真空室内设置有安装第一传感组件的支架，所述支架上设置有沿纵向设置的第一腰型孔，所述第一传感组件通过穿过第一腰型孔的螺栓固定在支架上。
8.根据权利要求7所述的真空室，其特征在于，所述支架上设置有水平布置的第二腰型孔，所述支架通过穿过第二腰型孔的螺栓固定在真空室的底面上。
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