[实用新型]机台腔体监控装置有效
| 申请号： | 201922091934.1 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN210778499U | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 池国维;刘厥扬;胡展源 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 顾浩 |
| 地址： | 201314*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 机台 监控 装置 | ||
1.一种机台腔体监控装置，其特征在于，包括：
温度传感器，用以测量腔体内半导体上覆盖的液体层的温度；
图形传感器，用以测量腔体内半导体上覆盖的液体层的形态。
2.根据权利要求1所述的机台腔体监控装置，其特征在于，还包括：
液体传输管路，所述液体传输管路包含液体出口，所述液体出口将所述液体覆盖到所述腔体内的半导体上。
3.根据权利要求2所述的机台腔体监控装置，其特征在于，
所述液体传输管路包含流量传感器用以测量所述液体的流量；
所述液体传输管路包含压力传感器用以测量所述液体在管路中的压力。
4.根据权利要求1-3之一所述的机台腔体监控装置，其特征在于，还包括：
混合罐，所述混合罐用以混合生成所述液体；
所述混合罐中设有浓度传感器。
5.根据权利要求1所述的机台腔体监控装置，其特征在于，还包括：
混合罐，所述混合罐用以混合生成所述液体；
液体传输管路，所述液体传输管路包含液体出口，所述液体出口将所述液体覆盖到所述腔体内的半导体上；
所述混合罐中设有浓度传感器；
所述液体传输管路包含流量传感器用以测量所述液体的流量；
所述液体传输管路包含压力传感器用以测量所述液体在管路中的压力；
所述混合罐通过所述液体传输管路与所述腔体连接。
6.根据权利要求1所述的机台腔体监控装置，其特征在于，
所述温度传感器为红外线测温仪，所述温度传感器安装在所述腔体内。
7.根据权利要求1所述的机台腔体监控装置，其特征在于，
所述图形传感器为电荷耦合器件，所述图形传感器安装在所述腔体内。
8.根据权利要求1所述的机台腔体监控装置，其特征在于，所述机台腔体为湿法刻蚀机台腔体，所述液体为刻蚀液。
9.根据权利要求1所述的机台腔体监控装置，其特征在于，所述机台腔体为清洗机台腔体，所述液体为清洗液。
10.根据权利要求1所述的机台腔体监控装置，其特征在于，还包括排液槽，所述排液槽用以排除反应后的液体。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
