[实用新型]一种自动拍舟装置有效
申请号: | 201922092950.2 | 申请日: | 2019-11-28 |
公开(公告)号: | CN211713198U | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 曹松;王志清;王坤;陆彦辉;王银;刘军;王强 | 申请(专利权)人: | 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/458;H01L31/18 |
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地址: | 224000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自动 装置 | ||
本发明为解决拍舟时需要大量的时间反复开关接驳台及节省人力提供一种技术方案是:一种自动拍舟装置,包括拍舟单元,气缸组件和固定座,其特征在于,所述拍舟单元通过轴承活动的设置在所述固定座上,所述气缸组件的一端通过轴承与拍舟单元连接,另一端通过轴承活动的设置在所述固定座上,所述气缸组件带动拍舟单元绕固定座进行拍打动作。
技术领域
本发明属于PECVD镀膜及自动插片机装取片技术领域,尤其涉及到硅片与石墨舟叶及石墨舟卡点接触方面的拍舟装置。
背景技术
随着工业社会的不断发展,人类对能源的需求量与日俱增,能源短缺已经成为阻碍经济发展与世界和平的关键因素。近些年来,国际原油储量的下降和价格的不断上升,进一步引起了人们对能源问题的重视,深知寻找可替代资源迫在眉睫。其中太阳能因其清洁、储量大,分布广泛等优点备受关注,以太阳能电池为核心的光伏产业直接将太阳能转化成电能,是目前公认的“绿色能源”。
太阳能电池中属晶硅太阳能电池发展最为迅猛,晶体硅类太阳能电池的制备一般经过制绒、扩散、镀膜、丝网印刷、烧结等工序。其中镀膜工艺是为了减少少数载流子在电池表面的复合,提高晶体硅太阳能电池片的转换效率,而在对硅片表面镀膜时,需要将未镀膜的硅片插入PECVD 真空镀膜设备的载片器上。目前,由于石墨舟优良的导热及导电性能,载片器通常采用石墨舟,具体操作过程是:将硅片插入石墨舟并通过石墨舟卡点定位于其上,然后,将载有硅片的石墨舟放置在PECVD 真空镀膜设备中,采用PECVD 工艺对硅片进行镀膜。
在PECVD自动插片机装取片时,由于硅片与舟叶及卡点会存在接触不佳的情况,进而需要人工轻拍石墨舟,利用硅片自身的重力与拍舟时振动的原理使硅片与石墨舟叶及卡点接触充分,从而减少因硅片与卡点或舟叶未接触充分造成的打火返工片,甚至硅片脱落破碎等问题。
发明内容
鉴于以上,本发明提供一种自动拍舟装置,该装置充分利用电气自动化及机械原理设计,可以完全取代人为拍舟中的不足,屏蔽掉人为反复开关接驳台进行人工拍舟的缺陷,大大节约人力,减少返工及碎片情况,进而充分提升机台利用率,和电池的成品率。具体技术方案如下:
一种自动拍舟装置,包括拍舟单元,气缸组件和固定座,其特征在于,所述拍舟单元通过轴承活动的设置在所述固定座上,所述气缸组件的一端通过轴承与拍舟单元连接,另一端通过轴承活动的设置在所述固定座上,所述气缸组件带动拍舟单元绕固定座进行拍打动作。
进一步,所述拍舟单元包括拍舟臂、拍舟板、直线轴承,所述拍舟板通过直线轴承设置在所述拍舟臂的下方,且拍舟板与拍舟臂的中间夹设有减震弹簧。优选的,本发明中拍舟臂及拍舟板使用铝型材材质,以此减轻自身重量,保护石墨舟。
进一步,所述固定座包括支撑柱,支撑柱上设置有两个轴承底座,分别位于支撑柱同侧的上、下两端,所述拍舟臂通过轴承安装在所述支撑柱的上端轴承底座上,所述气缸组件通过轴承安装在所述支撑柱的下端轴承底座上。优选的,本发明中支撑柱采用QT450球墨铸铁,从而提升机架的稳定性,减少拍舟时机架的晃动。
进一步,所述拍舟板上安装有橡胶垫板,所述直线轴承通过销钉固定在所述拍舟臂和所述拍舟板上。
进一步,所述气缸组件包括气缸和气缸固定杆,优选的,本发明中气缸选用德国FESTO标准气缸,用以增加拍舟的稳定性与时效性。
进一步,所述轴承为深沟球轴承。
本发明的有益效果是,可以完全取代人为拍舟中的不足,屏蔽掉人为反复开关接驳台进行人工拍舟的缺陷,大大节约人力,减少返工及碎片且充分提升机台利用率:PE工序碎片率是安装拍舟器前0.6%,安装拍舟器后降至0.4%,对于公司成本控制有很大益处。同时,自动化拍舟装置安全可靠、杜绝人为有不拍舟及漏拍舟的现象,工作效率高,应用前景广阔。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中进一步给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的