[实用新型]一种电致发光显示基板和包含其的电致发光显示装置有效
申请号: | 201922103166.7 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN210535696U | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 王涛;张嵩 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 付生辉 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电致发光 显示 包含 显示装置 | ||
1.一种电致发光显示基板,其特征在于,包括:
衬底;
形成在所述衬底上的显示区、隔离区和开孔区,所述显示区和所述隔离区围绕所述开孔区,所述隔离区位于所述显示区和所述开孔区之间,
其中,所述隔离区包括从所述显示区到所述开孔区方向依次排列的围堰和隔离柱,所述围堰和所述隔离柱围绕所述开孔区,所述隔离柱的顶面在所述衬底上的正投影包含所述隔离柱的底面在所述衬底上的正投影,所述围堰的底面在所述衬底上的正投影包含所述围堰的顶面在所述衬底上的正投影。
2.根据权利要求1所述的电致发光显示基板,其特征在于,
所述隔离柱在垂直于所述衬底的截面为倒梯形形状。
3.根据权利要求1所述的电致发光显示基板,其特征在于,
所述隔离柱为多个,从所述显示区到所述开孔区方向依次排列。
4.根据权利要求1所述的电致发光显示基板,其特征在于,
所述围堰在垂直于所述衬底的截面为正梯形形状。
5.根据权利要求1所述的电致发光显示基板,其特征在于,
所述显示区包括:
薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括依次设置在所述衬底上的栅极、栅绝缘层,层间介电层、源极和漏极;
与所述源极和漏极同层设置的信号线;
用于平坦化所述薄膜晶体管的平坦化层;
设置在所述平坦化层上与所述源极和漏极之一电连接的电致发光元件的阳极;
像素界定层,所述像素界定层围绕所述阳极;以及
在所述阳极上形成的电致发光元件的有机发光层和阴极,
所述隔离区包括:
与所述平坦化层同层设置的支撑层,所述隔离柱设置在所述支撑层上。
6.根据权利要求5所述的电致发光显示基板,其特征在于,
所述隔离柱与所述像素界定层同层设置。
7.根据权利要求5所述的电致发光显示基板,其特征在于,还包括
所述隔离区还包括信号线引线,电连接所述信号线,包括与所述信号线同层设置的第一信号线引线和与所述阳极同层设置的第二信号线引线,所述第一信号线引线与所述第二信号线引线电连接;
所述信号线引线在所述隔离柱靠近所述显示区的一侧。
8.根据权利要求7所述的电致发光显示基板,其特征在于,
所述围堰包括
第一围堰,包覆所述第一信号线引线朝向所述隔离柱的侧壁;和/或
第二围堰,包覆所述第二信号线引线朝向所述隔离柱的侧壁,
其中,所述第一围堰比第二围堰更靠近所述隔离柱。
9.根据权利要求8所述的电致发光显示基板,其特征在于,
所述第一围堰包括
与所述平坦化层同层设置的第一围堰基部、在第一围堰基部上与所述像素界定层同层设置的第一围堰支撑部和在所述第一围堰支撑部上的隔垫部;
所述第二围堰包括
与所述平坦化层同层设置的第二围堰基部和在第二围堰基部上与所述像素界定层同层设置的第二围堰支撑部。
10.根据权利要求5所述的电致发光显示基板,其特征在于,还包括
形成在所述隔离区和所述开孔区之间的防裂阻挡结构。
11.根据权利要求10所述的电致发光显示基板,其特征在于,所述防裂阻挡结构包括
形成在所述层间介电层中的阻挡沟槽;和/或
阻挡坝,与栅极同层设置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择