[实用新型]一种显示装置有效
申请号: | 201922121784.4 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN210515327U | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 李姗姗;何培龙;曹杰;何帅;方明;朱成兵;汪胜;朱孝菲;夏叶荫 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00;G06K9/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 | ||
1.一种显示装置,其特征在于,包括:衬底,设置于所述衬底上的发光器件、辅助发光器件、以及纹路识别层;
所述显示装置处于息屏状态时,所述纹路识别层可接收由所述辅助发光器件出射至所述显示装置外、且被反射的光线。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件包括沿所述显示装置的厚度方向依次层叠设置的第一电极层、辅助发光层、第二电极层;所述第一电极层包括间隔设置的多个第一电极;
所述显示装置还包括控制电路;所述控制电路与所述第一电极电连接,用于控制所述辅助发光层发光。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件与所述发光器件同层设置,且所述辅助发光器件和与其相邻的所述发光器件间隔设置。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件透光;
所述纹路识别层与所述辅助发光器件同层设置;
或者,所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件背离所述衬底一侧,所述显示装置还包括设置于所述纹路识别层与所述辅助发光器件之间的遮光层,所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述纹路识别层在所述衬底上的正投影。
5.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件不透光;
所述纹路识别层与所述辅助发光器件同层设置或异层设置;
在所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件背离所述衬底一侧的情况下,所述显示装置还包括设置于所述纹路识别层与所述辅助发光器件之间的遮光层,所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述纹路识别。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件与所述衬底之间;
纹路识别层位于所述辅助发光器件和与其相邻的所述发光器件之间的透光区域。
7.根据权利要求2-6任一项所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括像素电路,所述控制电路与所述像素电路同层设置。
8.根据权利要求1-6任一项所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置具有显示区,所述显示区包括多个子像素区域;
所述纹路识别层包括多个纹路识别单元;所述辅助发光器件与所述子像素区域一一对应。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,相邻行所述子像素区域之间沿行方向交错排布。
10.根据权利要求1-4任一项所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件发出的光为不可见光。
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