[实用新型]线圈水平位置可动态调整的蚀刻机结构

说明书

本实用新型公开了一种线圈水平位置可动态调整的蚀刻机结构，其包括：第一电浆反应腔体；水平滑动模块，其具有：至少一个第一高度支撑件；第一水平支撑件；第一滑动件；及第二滑动件；线圈支架；以及线圈模块；其中第一滑动件及第二滑动件，使线圈模块在第一电浆反应腔体上方，进行X轴向或Y轴向的移动。借由本实用新型的实施，可以动态的完成反应腔室壁体上，各不同部位沉积物的清理。

技术领域

本实用新型涉及一种蚀刻机结构，特别是涉及一种线圈水平位置可动态调整之蚀刻机结构。

背景技术

对感应耦合电浆(Inductively Coupled Plasma，ICP)而言，线圈的位置及长度是很重要的。一旦线圈的长度及位置被固定后，就不会再变动，因此电浆浓度的均匀度，电子温度分布，对反应腔体内局部损害的位置与程度都会固定。

如图1所示，当蚀刻机被使用一段时间后，在反应腔室的壁体上，就会有电浆反应后的聚合物的沉积(图中深色区域)，又相关聚合物的沉积，将会造成反应腔室内制程参数的失真，此外当聚合物沉积的厚度逐渐增加后，反应腔室内杂质微粒的准位也将随之升高，也因此产生严重影响良率的问题。

现有的感应耦合电浆蚀刻机，特别是在使用干式清理(dry clean)的时候，由于线圈的位置是固定在同一个位置，因此聚合物被清除的部位(图中浅色区域)，也受到了限制，造成反应腔室无法被有效的清理。

实用新型内容

本实用新型为一种线圈水平位置可动态调整地蚀刻机结构，其主要是要解决如何借由动态线圈位置的调整，以有效完成反应腔室壁体上，沉积物清理的问题。

本实用新型提供一种线圈水平位置可动态调整的蚀刻机结构，其包括：第一电浆反应腔体，其具有第一反应腔室；水平滑动模块，其具有：至少一个第一高度支撑件，其固设于第一电浆反应腔体的第一侧；第一水平支撑件，其结合于至少一个第一高度支撑件上；第一滑动件，其第一端部水平滑动结合于第一水平支撑件；及第二滑动件，其水平滑动结合于第一滑动件；线圈支架，其结合于第二滑动件，且形成于第一电浆反应腔体的上方处；以及线圈模块，其固设于线圈支架；其中第一滑动件及第二滑动件，使线圈模块在第一电浆反应腔体上方，进行X轴向或Y轴向的移动。

在本实用新型一实施例中，第一水平支撑件具有第一水平滑轨，又第一端部具有第一滑套，且第一滑套可滑动的结合于第一水平滑轨。

在本实用新型一实施例中，第一滑动件设有第一滑道，又第二滑动件具有第二滑轨，且第二滑轨可滑动的结合于第一滑道。

在本实用新型一实施例中，第一水平支撑件与第一滑动件相互垂直设置。

在本实用新型一实施例中，水平滑动模块还具有：

至少一个第二高度支撑件，其固设于第一电浆反应腔体的第二侧；以及

第二水平支撑件，其结合于至少一个第二高度支撑件上；

又第一滑动件，其第二端部水平滑动结合于第二水平支撑件。

在本实用新型一实施例中，第二水平支撑件具有第二水平滑轨，又第二端部具有第二滑套，且第二滑套可滑动的结合于第二水平滑轨。

在本实用新型一实施例中，第一水平支撑件与第二水平支撑件为相互平行的结构。

借由本实用新型的实施，至少可以达成下列的进步功效：

(一)可以动态的完成反应腔室，不同壁体位置上沉积物的清理；

(二)可以降低反应腔室内的杂质微粒的准位。