[实用新型]高稳定干体校验炉

权利要求书

1.高稳定干体校验炉，其特征在于，包括炉体外箱，所述炉体外箱采用框架式结构，包括加热区间和控制区间，加热区间与控制区间隔离，所述加热区间内设置有加热核心筒，控制区间设置有电气控制装置，电气控制装置与加热核心筒电连接，所述加热核心筒四周设置有散热涵道，加热核心筒下方设置有轴流风扇，轴流风扇与电气控制装置电连接，所述炉体外箱顶部开设有恒温槽，恒温槽呈环形，圈设于加热核心筒外围。

2.如权利要求1所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述加热核心筒包括外壳，所述外壳内部设置有基体，所述基体呈圆柱状，基体外侧螺旋缠绕有发热线，发热线通过导线与电气控制装置电连接。

3.如权利要求2所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述发热线外围设置有绝缘层，绝缘层与外壳内壁之间填充满高密度绝缘封材。

4.如权利要求2所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述发热线采用耐热镍铬合金制成。

5.如权利要求1所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述电气控制装置包括耦合电路、触发电路、过零控制电路、开关电路和吸收电路，所述耦合电路、过零控制电路、开关电路分别与触发电路相连接，所述吸收电路与开关电路相连接，所述耦合电路连接有输入端，所述开关电路连接有输出端。

6.如权利要求3所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述基体采用氧化镁制成。

7.如权利要求3所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述绝缘层采用氧化镁制成。

8.如权利要求5所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述耦合电路采用光耦合器。

9.如权利要求5所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述输入端采用发光二极管作为负载。

10.如权利要求1所述的高稳定干体校验炉，其特征在于，所述炉体外箱呈长方体状，长度为300mm，宽度为200mm，高度为300mm。