[实用新型]沿程磁处理反应装置有效

专利信息
申请号: 201922133636.4 申请日: 2019-12-02
公开(公告)号: CN211497518U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 黄伟莉;陈世泰;吴晓涛;李建;张帮亮;邵倩倩;肖欢 申请(专利权)人: 广东石油化工学院;广东省茂名市质量计量监督检测所
主分类号: C10G33/02 分类号: C10G33/02
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 庞学哲
地址: 525000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 沿程磁 处理 反应 装置
【权利要求书】:

1.沿程磁处理反应装置,其特征在于:包括

磁体组件单元,包括框架和多个磁体,多个所述磁体沿框架的长度方向依次安装在所述框架上,相邻所述磁体之间留有穿管间隙;

盘管,一端形成进液口,另一端形成出液口,所述进液口和/或出液口处设置控制阀,所述盘管往复盘绕并穿过多个所述穿管间隙。

2.根据权利要求1所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:所述框架沿长度方向设有多个磁槽,多个所述磁体依次安装在所述磁槽中。

3.根据权利要求2所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:所述框架采用尼龙材料通过3D打印成型。

4.根据权利要求1所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:所述盘管往复盘绕并多次穿过一个所述穿管间隙。

5.根据权利要求1所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:所述盘管的管径不大于1mm。

6.根据权利要求5所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:所述盘管采用聚四氟乙烯管。

7.根据权利要求1所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:多个所述磁体组件单元并行排列,所述盘管往复盘绕并穿过多个磁体组件单元的穿管间隙。

8.根据权利要求7所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:还包括底板和盖板,多个所述磁体组件单元并行排列在所述底板和盖板之间,所述磁体组件单元与所述底板和/或盖板固定连接,所述磁体组件单元、底板和盖板形成一个反应组件,所述底板上于相邻所述磁体组件单元之间设有限位部件。

9.根据权利要求8所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:还包括箱体,所述箱体上沿高度方向设有能够放置多层所述反应组件的槽位。

10.根据权利要求1所述的沿程磁处理反应装置,其特征在于:所述磁体包括钕铁硼永磁体,所述磁体的磁极方向与所述盘管穿过所述穿管间隙的方向平行。

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