[实用新型]一种接触式非球面轮廓测量工件基座以及测量系统有效
| 申请号： | 201922135542.0 | 申请日： | 2019-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN211373563U | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 高慧敏;张志利;刘春平;马晓明 | 申请（专利权）人： | 天津中德应用技术大学 |
| 主分类号： | G01B21/20 | 分类号： | G01B21/20 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 张义 |
| 地址： | 300350 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 接触 球面 轮廓 测量 工件 基座 以及 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种接触式非球面轮廓测量工件基座，其特征在于，包括放置在工作平台上、能够在X轴和Y轴方向移动的电动位移平台，所述电动位移平台上方连接有能够绕Z轴旋转的旋转位移台，所述旋转位移平台上方连接有沿Y轴方向设置的下角度位移平台，下角度位移平台上方连接有沿X轴方向设置的上角度位移平台，待测工件放置在上角度位移平台上。
2.根据权利要求1所述的一种接触式非球面轮廓测量工件基座，其特征在于，所述电动位移平台由两个MT1-Z8位移台正交堆叠在一起组成。
3.根据权利要求1所述的一种接触式非球面轮廓测量工件基座，其特征在于，所述旋转位移台的型号为PRMTZ8。
4.根据权利要求1所述的一种接触式非球面轮廓测量工件基座，其特征在于，所述下角度位移平台和上角度位移平台的型号为GNL20-Z8。
5.一种接触式非球面轮廓测量系统，其特征在于，包括工作平台以及设置在工作平台上的如权利要求1所述的工件基座、测量探针和测量传感器、升降块以及升降机构，
所述升降机构侧量探针连接在测量传感器上，测量传感器连接在升降块上，所述升降块通过升降机构升降。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津中德应用技术大学，未经天津中德应用技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922135542.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
