[实用新型]一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜双靶材联动挡板

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜双靶材联动挡板，包括左挡板、右挡板、驱动组件及联动组件，所述左挡板用于转动遮挡第一溅射靶，所述右挡板用于转动遮挡第二溅射靶，所述驱动组件连接有两个联动组件，所述左挡板、右挡板分别固定于两个联动组件的端部，两个联动组件通过固定组件分别与第一溅射靶及第二溅射靶连接，所述驱动组件带动联动机构转动使左挡板和右挡板交替转动，分别遮挡相对应的第一溅射靶或第二溅射靶。本实用新型通过一个主动齿轮以及两个从动小齿轮间的啮合关系实现在磁控溅射镀叠层膜时两个挡板的联动，不需要人工计时控制挡板，有更高的效率与稳定性，通过调节主动齿轮的高度，且工作方式不局限。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜双靶材联动挡板。

背景技术

磁控溅射设备是一种利用物理气相沉积法进行真空镀膜的实验仪器，通过电离出的离子轰击靶材，溅射出的靶材原子沉积在靶材上方的基底上制成薄膜，可以制备金属薄膜、半导体薄膜、高聚物薄膜等多种材质的薄膜，以及共溅射膜、双层膜、叠层膜等多种结构的膜。

叠层膜是由两种材料交替沉积多次，层叠十几至几十层后制备得到的复合膜。现有机构在进行叠层膜制备时要用到两个如图1的溅射靶，通过细钢杆的旋转控制水滴形片状挡板的位置，以实现溅射中不同靶材的遮挡与露出。两靶偏转一定角度对准中间自转基底，当溅射膜A时，靶材A挡板打开，使靶材能够溅射到基底上，另一种靶材B挡板为关闭状态，溅射一定时间后，手动控制靶材A挡板关上，靶材B挡板打开，在已溅射的A膜上溅射B膜，重复多次实现叠层膜的制备。

现有机构主要缺陷：现有机构进行叠层膜制备时需要手动操作两个靶挡板的开合来控制样品台基底上镀膜的成分，需要对两个挡板依次操作，无法实现两个挡板同时开合。人工计时控制挡板误差较大，且在镀膜总时间较长时，需要实验人员长时间操作，耗费人力，易产生失误。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有技术的缺陷，提供了一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜双靶材联动挡板，用于提高叠层膜镀膜切换效率，减少人力以及时间的消耗。

为了实现以上目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜双靶材联动挡板，用于第一溅射靶及第二溅射靶，包括左挡板、右挡板、驱动组件及联动组件，所述左挡板用于转动遮挡第一溅射靶，所述右挡板用于转动遮挡第二溅射靶，所述驱动组件连接有两个联动组件，所述左挡板、右挡板分别固定于两个联动组件的端部，两个联动组件通过固定组件分别与第一溅射靶及第二溅射靶连接，所述驱动组件带动联动机构转动使左挡板和右挡板交替转动，分别遮挡相对应的第一溅射靶或第二溅射靶。

进一步的，所述驱动组件包括主动大齿轮、可升降微型旋转电机，所述联动组件包括左小齿轮和右小齿轮，所述主动大齿轮与可升降微型旋转电机通过大齿轮轴连接，所述左小齿轮和右小齿轮啮合于主动大齿轮的两侧，所述左小齿轮和右小齿轮分别与左连杆组件和右连杆组件连接，左连杆组件和右连杆组件端部分别固定左挡板和右挡板，所述可升降微型旋转电机通过升降主动大齿轮使其交替啮合左小齿轮或右小齿轮。可升降微型旋转电机为GM-540直流减速电机。

进一步的，所述左连杆组件包括左细钢索、左小齿轮轴及左挡板连接杆，右连杆组件包括右细钢索、右小齿轮轴及右挡板连接杆，左小齿轮和右小齿轮分别通过左小齿轮轴、右小齿轮轴与相对的左细钢索的下端、右细钢索的下端固定连接，所述左细钢索的上端、右细钢索的上端分别连接左挡板连接杆和右挡板连接杆，所述左挡板连接杆和右挡板连接杆分别固定左挡板和右挡板。

进一步的，所述固定组件包括左挡板连接杆固定台及右挡板连接杆固定台，两个联动组件通过左挡板连接杆固定台及右挡板连接杆固定台分别与第一溅射靶及第二溅射靶连接。