[实用新型]掩模板

说明书

本公开的实施例公开了一种掩模板。掩模板包括多个遮光条，多个遮光条布置成网格状。掩模板包括掩模板正常曝光区域；以及由掩模板的侧边缘构成的并且与掩模板正常曝光区域邻接的掩模板拼接曝光区域。在掩模板拼接曝光区域与掩模板正常曝光区域之间具有分界线，多个遮光条包括位于掩模板拼接曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第一遮光条和位于掩模板正常曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第二遮光条，并且第一遮光条的宽度大于第二遮光条的宽度。采用根据本公开的实施例的掩模板，可以使基板拼接曝光区域的金属线的线宽与基板正常曝光区域的金属线的线宽更加一致。

技术领域

本公开的实施例涉及一种掩模板。

背景技术

为了使用小世代的生产线生产大尺寸的触控显示面板，通常采用拼接曝光工艺。即利用小尺寸的掩模板对大尺寸的基板进行多次曝光，由此形成具有网格结构的触控驱动电极或触控感应电极的金属线。

实用新型内容

本公开的实施例的目的是提供一种掩模板，由此例如可以提高利用该掩模板形成的具有网格结构的(诸如触控驱动电极或触控感应电极的)电极的质量。

本公开的实施例提供了一种掩模板，包括：多个遮光条，所述多个遮光条布置成网格状；掩模板正常曝光区域；以及由所述掩模板的侧边缘构成的并且与掩模板正常曝光区域邻接的掩模板拼接曝光区域，其中在掩模板拼接曝光区域与掩模板正常曝光区域之间具有分界线，所述多个遮光条包括位于掩模板拼接曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第一遮光条和位于掩模板正常曝光区域并且交叉设置成网格状的多个第二遮光条，并且所述第一遮光条的宽度大于所述第二遮光条的宽度。

根据本公开的实施例，在掩模板拼接曝光区域中的多个第一遮光条中的每一个与掩模板的边的夹角小于90度。

根据本公开的实施例，在掩模板拼接曝光区域中的多个第一遮光条中的两个相邻并平行的第一遮光条之间的间距与在掩模板正常曝光区域中的多个第二遮光条中的两个相邻并平行的第二遮光条之间的间距之间的差值等于第一遮光条的线宽和第二遮光条的线宽之间的差值。

根据本公开的实施例，所述掩模板还包括：重叠区域，所述重叠区域的至少一部分由所述掩模板正常曝光区域的一部分构成，所述重叠区域和掩模板拼接曝光区域具有相同的尺寸，所述重叠区域的包括第二遮光条的遮光条或包括第一遮光条和第二遮光条的遮光条的中心线形成的图案与掩模板拼接曝光区域的第一遮光条的中心线形成的图案相同。

根据本公开的实施例，所述掩模板还包括：由所述掩模板正常曝光区域的一部分构成的重叠区域，所述重叠区域和掩模板拼接曝光区域分别由所述掩模板的两个相对的侧边缘构成并具有相同的尺寸，并且所述重叠区域的第二遮光条的中心线形成的图案与掩模板拼接曝光区域的第一遮光条的中心线形成的图案相同。

根据本公开的实施例，所述掩模板具有矩形的形状，并且所述掩模板拼接曝光区域具有矩形的形状。

根据本公开的实施例，所述掩模板包括由所述掩模板的相对的两个侧边缘分别构成的两个掩模板拼接曝光区域，两个掩模板拼接曝光区域包括第一掩模板拼接曝光区域和第二掩模板拼接曝光区域，掩模板正常曝光区域位于第一掩模板拼接曝光区域和第二掩模板拼接曝光区域之间，在第一掩模板拼接曝光区域与掩模板正常曝光区域之间具有第一分界线并且在第二掩模板拼接曝光区域与掩模板正常曝光区域之间具有第二分界线，第一分界线和第二分界线构成两个掩模板拼接曝光区域与掩模板正常曝光区域之间的分界线。