[实用新型]一种高沾润性PLUS引线框架

权利要求书

1.一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：包括基岛(1)、连接筋(2)、横筋(3)、内引线(4)、外引线(5)和框架边框(6)；所述基岛(1)和框架边框(6)通过连接筋(2)连接，所述基岛(1)和框架边框(6)相互平行，且处于不同的平面，所述基岛(1)靠近框架边框(6)的侧面上均匀分布有V型槽(11)，所述V型槽(11)包括中间槽体(12)和四周槽体(13)，所述基岛(1)的靠近框架边框(6)的侧面大于远离框架边框(6)的侧面，且基岛(1)的四周设有锁定台阶(14)，所述内引线(4)设置在框架边框(6)的顶部，且关于连接筋(2)对称，所述内引线(4)上还设有锁定孔(41)，所述横筋(3)设置在框架边框(6)的顶部，且横筋(3)的顶部连接有连接筋(2)和内引线(4)，所述框架边框(6)上还设有均匀分布的定位孔(61)。

2.根据权利要求1所述的一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：所述V型槽(11)的中心槽体包括若干相互平行的槽体，且槽体与基岛(1)的上下面平行。

3.根据权利要求1所述的一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：所述V型槽(11)的四周槽体(13)环绕在中心槽体的四周，且四周槽体(13)和中心槽体位于同一平面上，所述四周槽体(13)中的槽体相互贯通。

4.根据权利要求1所述的一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：所述内引线(4)为“T”型结构，且所述锁定孔(41)设置在内引线(4)的拐角处。

5.根据权利要求1所述的一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：所述连接筋(2)的一端与横筋(3)连接，另一端与基岛(1)的底部连接，且连接筋(2)为带有弯折的矩形片状板。

6.根据权利要求1所述的一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：所述基岛(1)的顶部设有一段凹槽，且凹槽的两侧壁与基岛(1)顶面之间采用斜面过渡。

7.根据权利要求1所述的一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：所述框架边框(6)为矩形的，且所述外引线(5)的两端连接框架边框(6)的内侧壁，所述外引线(5)之间相互平行，且所述外引线(5)和框架边框(6)顶部的内引线(4)和横筋(3)均处于同一平面上。

8.根据权利要求1所述的一种高沾润性PLUS引线框架，其特征在于：所述框架边框(6)的底面上均匀的设置有矩形凹槽(62)，且所述矩形凹槽(62)与定位孔(61)相间排列。