[实用新型]真空架及包含其的真空输送带机构

权利要求书

1.一种真空架，其特征在于，所述真空架上具有输送物行走面，所述真空架内分段设置有多个与所述输送物行走面相贯通的真空流道，每两个所述真空流道上下并排构成一个真空流道组，在真空架的长度方向上，至少具有两个所述真空流道组。

2.根据权利要求1所述的真空架，其特征在于，所述真空流道为开设在所述输送物行走面上的凹槽，所述真空架上具有与所述输送物行走面相邻的真空管安装面，所述真空管安装面上开设有纵向孔，所述真空流道组内的两个所述真空流道之间通过所述纵向孔连通。

3.根据权利要求2所述的真空架，其特征在于，所述真空流道组内的两个所述真空流道之间通过多个所述纵向孔连通。

4.根据权利要求2所述的真空架，其特征在于，所述凹槽的底部贯通有横向孔，定义与所述真空流道组内的两个所述真空流道中的一个所述真空流道相贯通的横向孔为第一横向孔，与所述真空流道组内的两个所述真空流道中的另一个所述真空流道相贯通的横向孔为第二横向孔；所述第一横向孔与所述第二横向孔之间通过所述纵向孔连通。

5.根据权利要求4所述的真空架，其特征在于，所述真空流道组内的两个所述真空流道之间通过多个所述纵向孔、多个第一横向孔和多个第二横向孔连通，且所述第一横向孔的数量、所述第二横向孔的数量与所述纵向孔的数量相同。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的真空架，其特征在于，所述输送物行走面上沿真空架的长度方向设置有皮带导向槽。

7.根据权利要求6所述的真空架，其特征在于，所述皮带导向槽为两组，所述真空流道组中的两个上下并排的真空流道分别设置在两组所述皮带导向槽的底部。

8.根据权利要求7所述的真空架，其特征在于，所述真空架上具有与所述输送物行走面相对的背面，所述背面上沿真空架的长度方向设置有与所述皮带导向槽对接的第二皮带导向槽。

9.根据权利要求8所述的真空架，其特征在于，所述背面上具有安装架体，所述安装架体朝远离所述输送物行走面方向延伸出。

10.一种真空输送带机构，其特征在于，包括：

驱动轮；

输送带，所述输送带上间隔设置有气流孔；以及

权利要求1-9中任意一项所述的真空架；

其中，所述输送带绕设在所述驱动轮和所述输送物行走面上；当所述驱动轮转动时，所述输送带在所述驱动轮带动下沿所述输送物行走面行进且所述气流孔处于所述真空流道上，以使所述输送带的与所述输送物行走面相对的一侧上具有能够吸附待输送物的负压。