[实用新型]一种光面爆破系统

说明书

本实用新型公开了一种光面爆破系统，该系统包括有沿着边坡面由外向内逐排设置的主爆孔和光爆孔，所述主爆孔的排列密度小于光爆孔的排列密度，所述主爆孔内采用中部间隔耦合装药结构，所述光爆孔内采用不耦合装药结构，且相邻光爆孔间隔装药，所述光爆孔孔距设置为1.0‑1.5m，所述光爆孔排距设置为3‑4m。本实用新型通过采用光爆孔和主爆孔的合理间距开孔设置，同时采用耦合装药、不耦合装药结合方式实现了对岩层的有效爆破作用，无论是半孔率还是岩层的平整性都能够达到良好的效果，爆破后对岩层的危害较小，且炸药用量明显下降。

技术领域

本实用新型涉及爆破技术领域，具体为一种光面爆破系统。

背景技术

露天石灰石矿终了边坡采用常见的中深孔爆破技术，经常会造成岩层稳定性差，易产生危石、伞岩，更严重的产生山体滑坡、塌方等重大地质灾害。岩石边坡采用光面爆破技术，可以有效降低爆破震动等危害，有利于施工安全，可减少超、欠挖，被保护边坡形成光滑平面，从而保证终了边坡稳固安全。光面爆破开挖后，可在新形成坡面上留下清晰可见的半边孔壁痕迹，保护岩层坡面起伏差在±10-20cm，是一项很重要的控制爆破技术。现有的光面爆破在针对大孔径钻机穿孔的露天石灰石矿山进行光面爆破施工时其施工效果不佳，缺乏具有突出效果的光面爆破的解决方案。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光面爆破系统，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种光面爆破系统，该系统包括有沿着边坡面由外向内逐排设置的主爆孔和光爆孔，所述主爆孔的排列密度小于光爆孔的排列密度，所述主爆孔内采用中部间隔耦合装药结构，所述光爆孔内采用不耦合装药结构，且相邻光爆孔间隔装药，所述光爆孔孔距设置为1.0-1.5m，所述光爆孔排距设置为3-4m。

所述主爆孔设置有前、后两排，前、后两排所述的主爆孔在其各自所在排内的孔距均设置为5-7m，且前、后两排所述的主爆孔排距设置为3-4.5m。

前、后两排所述的主爆孔在其所在排内的孔距均设置为6m。

前、后两排所述的主爆孔排距设置为4m。

后排所述的主爆孔与光爆孔形成的抵抗线距离设置为3-4m。

后排所述的主爆孔与光爆孔形成的抵抗线距离设置为3.5m。

所述光爆孔孔距设置为1.5m。

所述光爆孔采用的不耦合结构的不耦合系数K，计算公式为：

K=d/d0

其中，d为炮孔直径（mm），d0为药卷直径（mm），所述K取值范围为2-5。

所述主爆孔内采用的中部间隔耦合装药的间隔距离变化范围占孔内装药长度15%-35%，且采用岩渣为间隔材料。

所述光爆孔的单孔装药量为Q，计算公式为：

Q=q×（L-I）+q×0.4

其中，q为每米装药量（g/m），L为炮孔长度（m），I为炮孔堵塞长度（m）。

所述主爆孔的孔深16.5m，所述光爆孔的孔深17m。

所述主爆孔和光爆孔的穿孔角度为70°。

所述光爆孔与相邻排的主爆孔的爆破时间大于或等于110ms。

由上述技术方案可知，本实用新型通过采用光爆孔和主爆孔的合理间距开孔设置，同时采用耦合装药、不耦合装药结合方式实现了对岩层的有效爆破作用，无论是半孔率还是岩层的平整性都能够达到良好的效果，爆破后对岩层的危害较小，且炸药用量明显下降。

附图说明