[实用新型]一种定量施压下的显微成像装置

说明书

本实用新型涉及成像装置技术领域，且公开了一种定量施压下的显微成像装置，包括密封腔、静水加压设备、压力测量设备和显微镜设备，所述静水加压设备和压力测量设备分别固定设置于密封腔的左右两侧，所述密封腔的顶部通过开设有套孔，所述密封腔的顶部通过套孔固定套接有套管，所述套管的上端设有密封盖，所述显微镜设备位于套管的内部且显微镜设备的底座固定设置于密封盖的下表面，所述显微镜设备延伸至密封腔的内部，所述套管的管壁左右两侧均设置有用于将密封盖固定的卡紧机构。本实用新型能够将显微镜设备与密封腔之间快速拆装，便于将显微镜设备进行维护。

技术领域

本实用新型涉及成像装置技术领域，尤其涉及一种定量施压下的显微成像装置。

背景技术

为了了解静水压力对疏水性微纳米表面结构材料的浸润稳定性的影响，通常需要在定量施压下，利用显微成像技术进行测量。现有技术中，通常要利用光刻硅片的方法得到规则排列的微米圆管阵列。

其中专利号为CN204255804U，公开了一种定量施压下的显微成像装置，所述装置包括：静水加压模块、密封腔、共聚焦显微镜和压力测量模块，其中，静水加压模块通过管道与密封腔相连，将密封腔充满并提供水压；所述密封腔底部设有待测量的样品，压力测量模块连接在密封腔内部用于测量压力值；所述共聚焦显微镜的物镜通过密封圈固定在密封腔的顶部，镜头向下用于测量样品，这样能够将共聚焦显微镜与密封腔集成为一体，使用短工作距离高分辨率的物镜，提高图像质量和测量的准确性。

上述专利中共聚焦显微镜是设置在密封腔顶部的，不便于将共聚焦显微镜进行拆卸维护，降低了共聚焦显微镜的实用性。为此，本实用新型设计了一种定量施压下的显微成像装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中共聚焦显微镜是设置在密封腔顶部的，不便于将共聚焦显微镜进行拆卸维护，降低了共聚焦显微镜的实用性的问题，而提出的一种定量施压下的显微成像装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种定量施压下的显微成像装置，包括密封腔、静水加压设备、压力测量设备和显微镜设备，所述静水加压设备和压力测量设备分别固定设置于密封腔的左右两侧，所述密封腔的顶部通过开设有套孔，所述密封腔的顶部通过套孔固定套接有套管，所述套管的上端设有密封盖，所述显微镜设备位于套管的内部且显微镜设备的底座固定设置于密封盖的下表面，所述显微镜设备延伸至密封腔的内部，所述套管的管壁左右两侧均设置有用于将密封盖固定的卡紧机构。

优选的，所述卡紧机构包括固定座、旋转板、卡杆和弹簧，所述固定座固定设置于套管的管壁上，所述旋转板竖直位于固定座的内部，所述旋转板的前后两侧均通过轴销与固定座的内侧壁转动连接，所述卡杆固定设置于旋转板朝向密封盖一侧的顶部位置处，所述密封盖的侧壁开设有与卡杆相配合的卡槽，所述弹簧固定设置于旋转板朝向套管一侧的底部位置处，所述弹簧远离旋转板的一端与套管的管壁固定连接。

优选的，所述旋转板远离套管一侧的底部固定设有按压垫。

优选的，所述密封盖的表面对称固定设有两个定位插板，所述套管的内壁开设有与定位插板相配合的定位插槽。

优选的，所述密封腔的顶部内壁且位于显微镜设备的外部固定设有透明密封罩。

优选的，所述密封腔的顶部连通设置有进料管。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种定量施压下的显微成像装置，具备以下有益效果：

1、该定量施压下的显微成像装置，通过设置在密封腔顶部的套管、密封盖、固定座、旋转板、卡杆、弹簧、定位插板和按压垫，能够实现将密封盖与套管快速拆装，从而便于将显微镜设备进行维护。