[实用新型]一种浸没式光刻装置有效
申请号: | 201922243639.3 | 申请日: | 2019-12-13 |
公开(公告)号: | CN211086918U | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 华平壤;姜城 | 申请(专利权)人: | 天津通软信息技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人: | 蔡岩岩 |
地址: | 300000 天津市滨海新区经济技术*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 浸没 光刻 装置 | ||
本实用新型提供了一种浸没式光刻装置,属于半导体制品领域。该浸没式光刻装置包括透镜、支撑组件、卡接组件和定位组件。所述卡接组件包括底座和滑杆,所述滑杆的一端固定有齿条,所述齿条与所述齿轮啮合,所述基板台中部开设有通槽,所述通槽侧壁开设有卡槽,所述滑杆的一端与所述卡槽卡接;通过设置的基板台便于底座的固定,通过设置的滑杆与卡槽卡接,通过旋转转轴带动齿条移动,使得齿条带动滑杆移动,使得滑杆的一端与卡槽插接,便于底座卡接固定,通过增设的吸盘,按压橡胶气囊,使得吸盘端部产生负压,便于吸附晶片,对晶片进行吸附定位,使得加工过程中晶片稳固,便于晶片的取放,操作方便快捷。
技术领域
本实用新型涉及半导体制品领域,具体而言,涉及一种浸没式光刻装置。
背景技术
目前,半导体器件和液晶装置的制造是通过一个所谓的光刻技术,其中掩模上的图案转移到感光基板。
现有的实验研究过程中,通过装置对晶片进行固定使用时,拿取不便,使得工作效率低下。
实用新型内容
为了弥补以上不足,本实用新型提供了一种浸没式光刻装置,旨在改善晶片取放不便的问题。
本实用新型是这样实现的:
本实用新型提供一种浸没式光刻装置,包括透镜、支撑组件、卡接组件和定位组件。
所述支撑组件包括掩模台和基板台,所述基板台嵌装于所述掩模台中部,所述掩模台上表面固定有罩体,所述透镜固定于所述罩体顶部。
所述卡接组件包括底座和滑杆,所述滑杆滑动插接在所述底座侧壁,所述底座下表面转动插接有转轴,所述转轴的一端固定有齿轮,所述滑杆的一端固定有齿条,所述齿条与所述齿轮啮合,所述基板台中部开设有通槽,所述通槽侧壁开设有卡槽,所述底座插接在所述通槽内,所述滑杆的一端与所述卡槽卡接.
所述定位组件包括吸盘和橡胶气囊,所述吸盘固定在所述底座上表面,所述橡胶气囊固定在所述底座下表面,所述橡胶气囊的吸气端口与所述吸盘连通。
在本实用新型的一种实施例中,所述底座内开设有中空槽,所述齿条设置在所述中空槽内,所述中空槽两侧分别开设有滑槽,所述滑杆滑动插接在所述滑槽内。
在本实用新型的一种实施例中,所述转轴的一端固定有旋钮,所述转轴的另一端连接有弹性件,所述弹性件的一端与所述中空槽内部连接。
在本实用新型的一种实施例中,所述通槽内壁开设有限位槽,所述底座侧壁固定有限位块,所述限位块与所述限位槽配合卡接。
在本实用新型的一种实施例中,所述底座与所述基板台连接处设置有密封垫,所述基板台上表面开设有引流槽,所述基板台下表面开设有引流口,所述引流口端口设置有堵头。
在本实用新型的一种实施例中,所述底座内开设有通孔,所述吸盘连接在所述通孔上端口,所述橡胶气囊连接在所述通孔下端口。
在本实用新型的一种实施例中,所述基板台上表面设置有进液管和吸液管,所述进液管与所述吸液管分别设置在所述基板台两侧,所述进液管与所述吸液管设置在所述罩体内。
在本实用新型的一种实施例中,所述进液管的一端连接有喷嘴,所述进液管的另一端连通有第一连接口,所述吸液管的一端连接有吸嘴,所述吸液管的另一端连通有第二连接口。
在本实用新型的一种实施例中,所述掩模台下表面固定有支撑腿,所述支撑腿下表面粘贴有防滑垫。
在本实用新型的一种实施例中,所述罩体外表面开设有调压口,所述调压口上端设置有气压调节阀。
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