[实用新型]用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统

说明书

本实用新型公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。

技术领域

本实用新型涉及光学技术领域，具体涉及一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统。

背景技术

在高功率激光装置建造和运行过程中，不可避免地会有少量污染物残留在光机元件表面或亚表面，并随着装置运行时间和能量的增加，残留污染物和溅射污染物在空间上转移数量和频次也逐渐增多，光学元件表面不可避免地会积累颗粒状污染物，这些颗粒状污染物聚集到一定程度后便会严重减低光学元件的损伤阈值。当装置在较高通量运行时会造成光学元件表面的激光诱导损伤，同时降低装置的运行性能和输出能力。反射镜是装置运行的重要系统之一，其镜面及空间的污染问题不容忽视。

洁净闭环是反射镜洁净维持系统全流程的重要环节。目前，尽管采用风刀吹扫能够在一定程度上对反射镜表面的洁净度进行维持。然而，去除的颗粒污染物然会在反射镜箱体内部或光传输管道中，存在二次污染的隐患。静电吸附去除颗粒污染物可以解决这一关键问题，通过离子风或高速气流将反射镜表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电感应电极在反射镜末端进行收集，从而达到污染物去除并定点收集的目的。当装置在维护阶段进行污染物收纳盒更换或洁净单元替换，即可使得污染物的去向得到有效控制，从而解决反射镜表面的颗粒污染问题，实现系统的全流程洁净闭环。

本实用新型公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物吸附的静电吸附装置，创造性地将静电吸附原理、离子棒风刀技术应用于光学洁净工程领域，对运行环境中光学元件表面颗粒污染物进行在线洁净处理，维持和维护光学元件表面洁净状态，防止光学元件因污染导致的损伤的发生，对确保装置高通量运行具有十分重要的意义。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷，并提供至少后面将说明的优点。

为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点，提供了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：

底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；

风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且所述风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；

静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，所述正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。

优选的是，所述光学元件的边缘通过四根支撑柱进行支撑连接；且所述光学元件与四根支撑柱的顶部的连接方式为：所述支撑柱的顶部连接有限位板，所述限位板上设置有与光学元件的边缘相匹配的限位部；盖板，其位于光学元件的边缘的上方，且盖板与限位板可拆卸连接。

优选的是，所述盖板与限位板的可拆卸连接方式为螺栓连接。

优选的是，所述光学元件为长方形、正方形、圆形、三角线、梯形光学元件中的任意一种。

优选的是，所述风刀及离子棒单元包括：

风刀，其通过连接板连接在支撑单元上；且所述风刀的出风口正对光学元件的上表面；