[实用新型]一种反应装置及反应设备

权利要求书

1.一种反应装置，其特征在于，包括反应结构和与所述反应结构连接的振动结构；所述反应结构包括反应管以及搅拌单元，所述反应管具有用于容纳反应物料的反应腔，所述搅拌单元设置在所述反应腔内，且所述搅拌单元上开设有多个通孔；所述振动结构用于带动所述反应结构运动，以使所述反应物料具有穿过所述通孔的运动趋势。

2.根据权利要求1所述的反应装置，其特征在于，所述搅拌单元沿所述反应管的轴向延伸。

3.根据权利要求2所述的反应装置，其特征在于，所述搅拌单元为管件，所述管件的轴线沿所述轴向延伸；多个所述通孔开设于所述管件的侧壁。

4.根据权利要求2所述的反应装置，其特征在于，所述搅拌单元包括相互连接的多个搅拌片，所述搅拌片绕所述轴向依次设置；多个所述通孔开设于所述搅拌片。

5.根据权利要求4所述的反应装置，其特征在于，所述搅拌片包括相互连接的第一搅拌部和第二搅拌部，所述第一搅拌部和所述第二搅拌部呈夹角设置，所述第一搅拌部和所述第二搅拌部均开设有多个所述通孔；多个所述搅拌片的第一搅拌部相互连接。

6.根据权利要求2所述的反应装置，其特征在于，所述反应结构的运动方向与所述轴向成夹角设置。

7.根据权利要求6所述的反应装置，其特征在于，所述运动方向与所述轴向垂直。

8.根据权利要求2所述的反应装置，其特征在于，所述反应结构还包括连接于所述搅拌单元的缓冲件。

9.根据权利要求8所述的反应装置，其特征在于，所述缓冲件连接于所述搅拌单元两个端部。

10.根据权利要求9所述的反应装置，其特征在于，所述缓冲件包括相互连接的第一缓冲部和第二缓冲部，所述第一缓冲部与所述搅拌单元的端面配合，所述第二缓冲部与所述搅拌单元的周面配合。

11.根据权利要求8所述的反应装置，其特征在于，所述缓冲件的材质为导电材料。

12.根据权利要求11所述的反应装置，其特征在于，所述导电材料为铜或铝。

13.根据权利要求1所述的反应装置，其特征在于，所述反应管包括内管体和套设于所述内管体的外管体；所述反应腔设置于所述内管体内；所述内管体与所述外管体之间形成用于容纳换热介质的换热腔。

14.根据权利要求13所述的反应装置，其特征在于，所述反应管还包括设置在所述换热腔内的扰流件。

15.根据权利要求14所述的反应装置，其特征在于，所述扰流件固定连接于所述内管体的外壁。

16.根据权利要求14所述的反应装置，其特征在于，所述扰流件为翅片，所述翅片沿所述换热腔的介质入口到介质出口的方向螺旋设置。

17.根据权利要求1所述的反应装置，其特征在于，所述反应管上开设有与所述反应腔连通的安装接口，所述安装接口安装有温度传感器，所述温度传感器用于检测所述反应腔内的温度。

18.根据权利要求17所述的反应装置，其特征在于，所述反应腔的物料入口和物料出口分别位于所述反应管的两端；所述安装接口的数量为多个，多个安装接口沿所述物料入口到所述物料出口的方向依次设置。