[实用新型]一种斜面存在级差变化的单元式幕墙拼接结构有效

专利信息
申请号: 201922279831.8 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN211774929U 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 于清帅;唐茂盛;黄甫华;孙强 申请(专利权)人: 金刚幕墙集团有限公司
主分类号: E04B2/96 分类号: E04B2/96
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 任毅
地址: 510635 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 斜面 存在 级差 变化 单元 幕墙 拼接 结构
【权利要求书】:

1.一种斜面存在级差变化的单元式幕墙拼接结构,其特征在于,包括:

单元公立柱;

单元母立柱,所述单元母立柱和单元公立柱平行设置,所述单元公立柱和单元母立柱通过密封胶固定,所述单元公立柱和单元母立柱位于同一斜直线上;

转接型材,所述转接型材螺栓固定在单元公立柱和单元母立柱的底端,所述转接型材的一侧安装有单元面板;

第一挂件,所述第一挂件一端与幕墙的单元公母立柱通过螺钉紧固,所述第一挂件另一端设置有滑槽;

第二挂件,所述第二挂件一端插接在滑槽内,所述第一挂件和第二挂件通过螺钉紧定;

地弹码,所述地弹码一端与第二挂件通过螺钉固定,所述地弹码另一端与墙面螺钉固定。

2.根据权利要求1所述的斜面存在级差变化的单元式幕墙拼接结构,其特征在于:所述单元母立柱设置有凹槽,所述单元公立柱设置有支柱,所述支柱插接在凹槽里并通过密封胶固定。

3.根据权利要求1所述的斜面存在级差变化的单元式幕墙拼接结构,其特征在于:所述第一挂件包括第一直板和设置在第一直板后端的半圆环结构,所述第一直板与幕墙的单元公母立柱通过螺钉紧固。

4.根据权利要求3所述的斜面存在级差变化的单元式幕墙拼接结构,其特征在于:所述第二挂件包括第二直板、设置在第二直板前端的圆柱结构、设置在第二直板后端的圆弧形的缺口,所述圆柱结构插接在半圆环结构内并通过螺钉紧固。

5.根据权利要求4所述的斜面存在级差变化的单元式幕墙拼接结构,其特征在于:所述地弹码包括第三直板、位于第三直板一端的球头结构、位于第三直板另一端的锯齿板,所述第二挂件的缺口与地弹码的球头结构配合安装并通过螺钉固定。

6.根据权利要求5所述的斜面存在级差变化的单元式幕墙拼接结构,其特征在于:所述第一挂件、第二挂件、地弹码均为铝合金材料制作。

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