[实用新型]一种深度测量装置有效

专利信息
申请号: 201922306535.2 申请日: 2019-12-18
公开(公告)号: CN211826515U 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 曾海;王兆民 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G01S17/08 分类号: G01S17/08;G01S17/36;G01S7/4911;G01S7/4912
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 王震宇
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 深度 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种深度测量装置,其特征在于,包括:

发射模组,包括斑点投影器和液晶,所述斑点投影器被配置为以具有多个斑点的斑点图案提供输出光并通过所述液晶照射目标物体;

采集模组,其包括由至少一个像素组成的图像传感器,所述图像传感器被配置为检测包括所述输出光经所述目标物体反射回的至少一部分反射光;

控制与处理器,与所述发射模组以及所述采集模组连接,所述控制与处理器被配置为根据所述输出光和所述反射光的相位差以获取所述目标物体的距离;

其中,所述液晶被配置为可控制切换状态以接收所述斑点图案后向所述目标物体投射斑点图案或泛光图案。

2.如权利要求1所述的深度测量装置,其特征在于,所述液晶在第一状态呈透明态,以使得所述发射模组向所述目标物体投射斑点图案。

3.如权利要求1所述的深度测量装置,其特征在于,所述液晶在第二状态呈扩散态,以使得所述发射模组向所述目标物体投射泛光图案。

4.如权利要求1所述的深度测量装置,其特征在于,所述斑点投影器包括光源和光学元件。

5.如权利要求4所述的深度测量装置,其特征在于,所述光源是垂直腔面发射激光器。

6.如权利要求4所述的深度测量装置,其特征在于,所述光源包括由多个子光源组成的光源阵列。

7.如权利要求6所述的深度测量装置,其特征在于,所述光源阵列的子光源是不规则排列。

8.如权利要求4所述的深度测量装置,其特征在于,所述光学元件包括衍射光学元件。

9.如权利要求1所述的深度测量装置,其特征在于,所述图像传感器是ToF图像传感器。

10.如权利要求1所述的深度测量装置,其特征在于,每个所述像素包括至少两个抽头,所述抽头用于采集经所述目标物体反射回的光束所产生的电信号。

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