[实用新型]晶圆湿制程设备用晶圆上下料槽装置有效
申请号: | 201922317670.7 | 申请日: | 2019-12-22 |
公开(公告)号: | CN211208409U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 王振荣;刘红兵;方琴剑;朱雄 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆湿制程设 备用 上下 装置 | ||
本实用新型公开了一种晶圆湿制程设备用晶圆上下料槽装置,包括槽壳体,所述槽壳体内具有供放置晶圆的内腔,所述槽壳体上设有挂架机构,通过所述挂架机构提取或下放挂篮,所述挂篮用于放置晶圆,所述槽壳体上设有供驱动所述晶圆往复作动以进行上下料的送料驱动机构。本实用新型所提供的晶圆湿制程设备用晶圆上下料槽装置,其结构简明,方便操作,上下料高效快速,通过挂架机构可快速将清洗后的晶圆下方至槽体的内腔,以充分衔接于清洗工序之后;通过送料驱动机构使晶圆实现高效往复作动以进行上下料,待上下料后,可通过挂架机构快速提取出放置晶圆用的挂篮。
技术领域
本实用新型涉及一种晶圆湿制程设备用晶圆上下料槽装置。
背景技术
在半导体加工领域,往往需要通过相应的处理液对半导体元件进行处理,如晶圆、引线框架或者PCB板生产过程中需要蚀刻、清洗。蚀刻完成后,如果粉末粘附在产品上,会影响产品的质量,所以需要去除粉末。去除粉末的一种方法是清洗,利用水冲洗产品,将粉末去除。待粉末去除后,再将晶圆进行上下料。目前,需要一种能衔接于清洗工序后的上下料装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种晶圆湿制程设备用晶圆上下料槽装置。
为实现以上目的,通过以下技术方案实现:
一种晶圆湿制程设备用晶圆上下料槽装置,包括槽壳体,所述槽壳体内具有供放置晶圆的内腔,所述槽壳体上设有挂架机构,通过所述挂架机构提取或下放挂篮,所述挂篮用于放置晶圆用,所述槽壳体上设有供驱动所述晶圆往复作动以向外进行上下料的送料驱动机构。
优选地,所述槽壳体的顶面设有支梁,所述挂架机构的上部延伸出钩挂段,所述钩挂段支设于所述支梁上,所述挂架机构的下部两侧分别设有提挂梁,所述挂篮的两侧设有挂耳,所述挂耳挂设于所述提挂梁上。所述支梁上设有钩挂凹槽,所述钩挂段挂设于该钩挂凹槽上。
优选地,所述送料驱动机构设于所述槽壳体的底部下表面且包括驱动电机,所述驱动电机的输出轴往复转动并设有连接块机构,所述连接块机构穿过所述槽壳体的底面并连接于所述挂篮进而驱动所述挂篮往复滑设于所述槽壳体的底面上。
优选地,所述槽壳体的底面设有滑移底板,所述滑移底板上设有滑移基座,所述挂篮设于所述滑移基座上进而沿所述滑移底板的长度方向滑移,所述连接块机构包括驱动块以及转接块,所述驱动块与所述驱动电机的输出轴套设连接,所述转接块的一端连接于所述驱动块,所述转接块的另一端穿过所述槽壳体的底面并连接于所述滑移基座,进而通过所述驱动电机迫使所述驱动块配合所述转接块带动所述滑移基座往复滑移。
优选地,所述槽壳体的底部下表面设有平行于所述滑移底板的滑轨,所述滑轨上设有滑块,所述驱动块及所述转接块分别连接于所述滑块进而沿所述滑轨的长度方向往复移动。
优选地,所述滑移基座通过滑移卡座滑设于所述滑移底板上,所述滑移卡座的两侧延伸至所述滑移底板的下表面,所述转接块穿过所述槽壳体底面的一端设有宽度连接板,所述宽度连接板的两侧分别连接于滑移卡座延伸出的两侧,进而,所述驱动块带动所述转接块,所述转接块带动所述滑移卡座。
优选地,所述滑移基座可拆卸安装于所述滑移卡座上,所述滑移卡座的两侧分别设有紧固压板以供压住所述滑移基座。
优选地,所述滑移基座的上表面设有凹陷槽,所述挂篮的底部适配卡设于所述凹陷槽内。
优选地,所述槽壳体的顶面及一侧面敞开,所述滑移底板的两端分别水平固设于所述槽壳体所敞开的一侧面及相对于该侧的另一侧槽壁上。
本实用新型晶圆湿制程设备用晶圆上下料槽装置的有益效果包括:
1)通过挂架机构可快速将清洗后的晶圆下方至槽体的内腔,以充分衔接于清洗工序之后;通过送料驱动机构使晶圆实现高效往复作动以向槽外进行上下料,待上下料后,可通过挂架机构快速提取出放置晶圆用的挂篮;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造