[实用新型]一种光学相干层析成像系统

权利要求书

1.一种光学相干层析成像系统，其特征在于，所述光学相干层析成像系统包括：光源、耦合器、参考臂、样品臂、用于放置待测物品的导轨、信号采集设备以及信号处理设备；所述参考臂包括一个第一准直透镜以及n个参考反射镜；所述样品臂包括n个样品反射镜组；所述导轨中的待测物品延导轨的第一位置依次移动到导轨的第n位置；所述n个样品反射镜组分别位于所述导轨的不同方向；其中，n为大于或等于2的整数；

所述光源，用于发射宽带光；

所述耦合器用于将所述宽带光分束，得到参考光和样品光；

所述参考光经所述第一准直透镜准直后，经所述n个参考反射镜分别进行反射得到n个参考反射光，并且所述n个参考反射光依次射入所述耦合器；

所述样品光经所述n个样品反射镜组分别准直并聚焦后，依次射向位于所述导轨的第一位置到第n位置的待测物品，得到n个样品反射光，所述n个样品反射光经所述n个样品反射镜组射入所述耦合器，并分别与所述耦合器中的n个参考反射光干涉，得到n路包含同一待测物品不同方向的光谱信息的干涉光；

所述信号采集设备用于探测所述干涉光，得到干涉信号，并将所述干涉信号传输给信号处理设备；

所述信号处理设备用于对所述干涉信号进行处理，得到所述待测物品不同方向的结构图像。

2.如权利要求1所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述参考光经所述第一准直透镜准直后，由第一个参考反射镜反射得到第一参考反射光，并且，由所述第一个参考反射镜透射出的参考光经所述第二个参考反射镜反射得到第二参考反射光，由所述第二个参考反射镜透射出的参考光经所述第三个参考反射镜反射得到第三参考反射光，……，由所述第n-1个参考反射镜透射出的参考光经所述第n个参考反射镜反射得到第n参考反射光；所述第一参考反射光、第二参考反射光、第三参考反射光、……、第n参考反射光射入所述耦合器。

3.如权利要求1或2所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述n个参考反射镜包括：n-1个可以透射的反射镜和一个平面反射镜。

4.如权利要求3所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述可以透射的反射镜的出射面渡有增透膜。

5.如权利要求2所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，当所述导轨中与第一个样品反射镜组对应的第一位置放置有所述待测物品时，所述样品光经所述第一个样品反射镜组准直并聚焦后，射向所述第一位置放置的待测物品，并由所述待测物品反射得到第一样品反射光；所述第一样品反射光射入所述耦合器，并与所述耦合器中的第一参考反射光干涉，得到第一干涉光；当所述第一位置未放置有所述待测物品且所述导轨中与第二个样品反射镜组对应的第二位置放置有所述待测物品时，所述样品光经第一个样品反射镜组射入所述第二个样品反射镜组，并经所述第二个样品反射镜组准直并聚焦后，射向所述第二位置放置的待测物品，由所述待测物品反射得到第二样品反射光；所述第二样品反射光射入所述耦合器，并与所述耦合器中的第二参考反射光干涉，得到第二干涉光；当所述第一位置和所述第二位置均未放置有所述待测物品且所述导轨中与第三个样品反射镜组对应的第三位置放置有所述待测物品时，所述样品光经所述第一个样品反射镜组和第二个样品反射镜组射入所述第三个样品反射镜组，并经所述第三个样品反射镜组准直并聚焦后，射向所述第三位置放置的待测物品，由所述待测物品反射得到第三样品反射光；所述第三样品反射光射入所述耦合器，并与所述耦合器中的第三参考反射光干涉，得到第三干涉光；依次类推，得到所述n路包含同一待测物品不同方向的光谱信息的干涉光。

6.如权利要求5所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述n个样品反射镜组中的第一个样品反射镜组包括：一个第二准直透镜和一个聚焦透镜。

7.如权利要求5所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述第二个样品反射镜组、所述第三个样品反射镜组、……、第n个样品反射镜组均包括：一个第二准直透镜、一个聚焦透镜以及一个或多个平面反射镜。