[实用新型]一种用于插片机和清洗机的供水装置有效
申请号: | 201922335595.7 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN211359823U | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 冯震坤;许春杰 | 申请(专利权)人: | 无锡京运通科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/10;B08B3/14 |
代理公司: | 无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙) 32376 | 代理人: | 姬颖敏 |
地址: | 214183 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 插片机 清洗 供水 装置 | ||
本实用新型涉及一种用于插片机和清洗机的供水装置;其特征在于:包括收集所述清洗机内清洗水的积液池、连接所述插片机出水口的混合装置和将所述积液池内清洗水送入所述混合装置内的抽水装置;所述积液池通过收集管道连接所述清洗机的清洗槽;所述混合装置连接冷水源。解决了现有方案造成的将清洗水直接排出造成清洗水的浪费和插片机采用冷水将硅片冲开容易造成硅片的崩边等问题。
技术领域
本实用新型涉及供水设备,具体涉及一种用于插片机和清洗机的供水装置。
背景技术
一般的,光伏是太阳能光伏发电系统的简称,是一种利用太阳电池半导体材料的光伏效应,将太阳光辐射能直接转换为电能的一种新型发电系统。其中所使用的半导体器件生产中硅片必须严格清洗。微量的污染会导致器件失效,清洗的目的在于清洗表面的污染。需要通过插片机先将硅片插入片盒内,再通过清洗机移动片盒对硅片进行清洗。插片机中需要大量的清水将硅片冲开。清洗机需要大量的清洗水对硅片进行清洗。插片机和清洗机会造成水的浪费,如何解决这个问题变得至关重要。
现有的方案,插片机和清洗机为两个独立工作的设备。插片机采用冷水将硅片冲开。清洗机的清洗槽的清洗水出现溢流,将清洗水收集后排出。这样的方案存在以下问题:(1)将清洗水直接排出,造成清洗水的浪费;(2)插片机采用冷水将硅片冲开,硅片很难分开,容易造成硅片的崩边。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型公开了一种用于插片机和清洗机的供水装置,以解决现有技术中将清洗水直接排出造成清洗水的浪费和插片机采用冷水将硅片冲开容易造成硅片的崩边等问题。
本实用新型所采用的技术方案如下:
一种用于插片机和清洗机的供水装置;
包括收集所述清洗机内清洗水的积液池、连接所述插片机出水口的混合装置和将所述积液池内清洗水送入所述混合装置内的抽水装置;所述积液池通过收集管道连接所述清洗机的清洗槽;所述混合装置连接冷水源。
进一步的技术方案为:所述收集管道靠近所述清洗槽的一端嵌入所述清洗槽内;所述收集管道靠近所述清洗槽的一端开口向上。
进一步的技术方案为:所述收集管道上设置有控制清洗水流量的第一控制阀;所述第一控制阀设置于所述收集管道上靠近所述清洗槽的一端。
进一步的技术方案为:所述抽水装置的进水口通过抽水管道连通所述积液池;所述抽水装置的出水口连通所述混合装置。
进一步的技术方案为:所述积液池内靠近所述抽水管道的位置设置有过滤网;所述抽水管道靠近所述积液池的一端设置有第二控制阀。
进一步的技术方案为:所述混合装置通过输送管道连接所述插片机的出水口;所述输送管道上设置有测温装置。
进一步的技术方案为:所述混合装置通过冷水管道连接所述冷水源;所述冷水管道上设置有第三控制阀。
进一步的技术方案为:所述混合装置为静态混合器;所述抽水装置为水泵。
本实用新型的有益效果如下:本实用新型设计了一种用于插片机和清洗机的供水装置采用积液池对清洗水进行回收再利用。采用混合装置将清洗水和冷水进行混合。用于插片机和清洗机的供水装置带来了如下效果:(1)采用积液池对清洗水进行回收,采用抽水装置将清洗水进行再利用,实现了清洗水的再利用,避免了清洗水的浪费;(2)采用混合装置将清洗水和冷水进行混合,采用40℃的混合液进行喷射,容易将硅片冲开,避免造成硅片的崩边;(3)通过调节第三控制阀和调节抽水装置,控制冷水量和清洗水量,保证混合液一直维持在40℃;(4)通过收集管道避免杂质进入积液池内;(5)通过过滤网对积液池内清洗水进行过滤,避免杂质损坏抽水装置。
附图说明
图1为本实用新型的示意图。
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