[实用新型]镀膜置物架及镀膜机构有效
申请号: | 201922337424.8 | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN211522312U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 李婷;逯正旺;赵学军;高家政;曾梓伦 | 申请(专利权)人: | 凯茂科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 谢岳鹏 |
地址: | 518106 广东省深圳市光*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 置物架 机构 | ||
本实用新型公开了一种镀膜置物架及镀膜机构,包括载物盘、支架基体及料盘,载物盘上设有多个安装腔,支架基体能够转动,载物盘转动连接于支架基体上,载物盘能够跟随支架基体转动以及相对支架基体进行转动,料盘安装于安装腔内,并能够跟随载物盘转动。本实用新型中的镀膜置物架采用“自转加公转”的转动形式,料盘在相对支架基体转动的同时,能够跟随支架基体的转动而转动,在进行镀膜时,位于支架基体不同位置处的待镀膜件能够跟随料盘的运动而移动,初始位于支架基体边缘处的料盘能够移动至支架基体的中心处以及其他区域,待镀膜件不会因为位置约束出现镀膜边缘薄中心厚的情况,使膜层的厚度更为均匀,优化镀膜效果以及工件的产品性能。
技术领域
本实用新型涉及镀膜技术领域,尤其是涉及一种镀膜置物架及镀膜机构。
背景技术
为改善产品性能,大多工业产品表面都镀有功能薄膜,以优化产品表面光学、热学性能,传统的真空镀膜技术一般为物理气相沉积技术和化学气相沉积技术,物理气相沉积是利用蒸发或者溅射等物理形式,把固体的材料转化为院子、分子或者粒子态的气相物质沉积到基体或零件的表面,已形成膜层的制备方法,物理气相沉积技术具有薄膜均匀、靶材广泛、溅射范围宽的优点。
在对工件进行镀膜时,通过将待镀的工件置于镀膜架上进行镀膜,传统镀膜架的镀膜形式单一,镀膜的中心厚边缘薄,造成膜层的平整度较差、镀膜不均匀,镀膜效果差。
实用新型内容
本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本实用新型提出一种镀膜置物架及镀膜机构,能够克服镀膜厚度不均匀的缺陷。
第一方面,本实用新型的一个实施例提供了一种镀膜置物架,包括:
载物盘,所述载物盘上设有多个安装腔;
支架基体,所述支架基体能够转动,所述载物盘转动连接于所述支架基体上,所述载物盘能够跟随所述支架基体转动以及相对所述支架基体进行转动;
料盘,所述料盘安装于所述安装腔内,并能够跟随所述载物盘转动。
本实用新型实施例中的镀膜置物架至少具有如下有益效果:
本实用新型中的镀膜置物架采用“自转加公转”的转动形式,使料盘在相对支架基体转动的同时,能够跟随支架基体的转动而转动,在进行镀膜时,位于支架基体不同位置处的待镀膜件能够跟随料盘的运动而进行移动,初始位于支架基体边缘处的料盘能够移动至支架基体的中心处以及其他区域,初始位于支架中心处的料盘能够移动至支架基体的边缘处以及其他区域,待镀膜件不会因为位置约束出现镀膜边缘薄中心厚的情况,使膜层的厚度更为均匀,优化镀膜效果以及工件的产品性能。
根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架,所述支架基体上安装有中心轮盘,所述载物盘均匀分布于所述中心轮盘的周围。
根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架,所述中心轮盘能够跟随所述支架基体转动,所述载物盘能够跟随所述中心轮盘的转动而转动。
根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架,所述支架基体包括连接架及多根支撑架,所述支撑架的一端连接于所述支架基体的中心处,所述支撑架的另一端与所述连接架连接并基于所述支架基体的中心向外发散。
根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架,所述支架基体还包括载物架,所述载物架转动连接于所述支撑架上,所述载物盘放置于所述载物架上。
根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架,所述中心轮盘的边缘设有第一轮齿,所述载物架的边缘设有第二轮齿,所述第一轮齿与所述第二轮齿啮合。
根据本实用新型的另一些实施例的镀膜置物架,所述载物盘上分布有若干第一插接块,所述载物架上分布有若干第二插接块,所述第一插接块能够与所述第二插接块插接。
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