[实用新型]一种石英晶体超声波清洗装置

说明书

本实用新型公开并提供了一种结构简单、清洗效果好而且效率高的石英晶体超声波清洗装置。本实用新型包括机架台（1），所述机架台（1）上分别设置有酸洗池（2）以及清洗池（3），所述酸洗池（2）以及所述清洗池（3）的底部均设置有超声波发生器（4），所述超声波发生器（4）通过换能器（5）分别与所述清洗池（3）的底部以及所述酸洗池（2）的底部相连接，所述机架台（1）上设置有双池联动架，所述双池联动架上设置有两个清洗篮（51），两个所述清洗篮（51）分别适配设置在所述酸洗池（2）以及所述清洗池（3）内。本实用新型适用于石英晶体的生产加工领域。

技术领域

本实用新型涉及一种石英晶体超声波清洗装置。

背景技术

石英晶片在切割、研磨、滚筒加工过程中，因受到机械加工，研磨材与石英晶片之间的撞击产生了表面破坏层，由于表面破坏层存在极微小的凹凸不平，导致研磨材残留特及一些金属离子附着物粘附在晶片表层，如果清洗不能将其清洗干净直接增加晶体振动能量的损耗，同时也带来了表面应力弛豫效应。制成石英谐振器后，还会由于石英碎屑的脱落，引起频率漂移和电极不牢、老化率大、电阻大等问题。因此石英晶片必须进行清洗、腐蚀，清除表面破坏层，改善表面状态。石英晶体的石英晶片在制作工程中必须进行腐蚀抛光，由于石英晶片体积小、厚度薄、与液体接触后容易粘团及腐蚀后表面残留等不便于清洗干净，加之传统酸洗工艺都是浸泡式的传统清洗方式不但每次清洗的数量少，而且浸泡式清洗后晶片表面不洁净，使其清洗品质得不到有效保证。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、清洗效果好而且效率高的石英晶体超声波清洗装置。

本实用新型包括机架台，所述机架台上分别设置有酸洗池以及清洗池，所述酸洗池以及所述清洗池的底部均设置有超声波发生器，所述超声波发生器通过换能器分别与所述清洗池的底部以及所述酸洗池的底部相连接，所述机架台上设置有双池联动架，所述双池联动架上设置有两个清洗篮，两个所述清洗篮分别适配设置在所述酸洗池以及所述清洗池内。

所述双池联动架包括电机、凸轮、连杆、支撑梁以及置篮梁，所述电机固定设置在所述机架台上并置于所述酸洗池以及所述清洗池的下方，所述凸轮固定连接设置在所述电机的输出轴的前端，所述连杆的一端与所述凸轮的凸起部相铰接，所述连杆的另一端铰接在所述支撑梁上，所述支撑梁水平置于所述机架台的一侧并置于所述电机的上方，所述置篮梁通过固定柱与所述支撑梁连接设置并置于所述酸洗池以及所述清洗池的上方，两个所述清洗篮分别固定设置在所述置篮梁上。

所述酸洗池以及所述清洗池的外壁上均设置有空心导柱，所述空心导柱与所述固定柱相对应设置，所述固定柱适配滑动套设在所述空心导柱内。

所述酸洗池以及所述清洗池内还设置有加热管。

本实用新型的有益效果是：在本实用新型中，在酸洗池以及清洗池的底部均设置有超声波发生器并采用换能器相连接，所以在酸洗池以及清洗池工作的时候得到超声波辅助，更好地对产品表面进行清洗而不会损坏产品。另外本实用新型采用了双池联动架驱动清洗篮作上下升降动作，置于清洗篮内的产品能够获得更好的清洗动作，使得清洗效率以及效果更高。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型包括机架台1，所述机架台1上分别设置有酸洗池2以及清洗池3，所述酸洗池2以及所述清洗池3的底部均设置有超声波发生器4，所述超声波发生器4通过换能器5分别与所述清洗池3的底部以及所述酸洗池2的底部相连接，所述机架台1上设置有双池联动架，所述双池联动架上设置有两个清洗篮51，两个所述清洗篮51分别适配设置在所述酸洗池2以及所述清洗池3内。所述酸洗池2以及所述清洗池3内还设置有加热管。