[实用新型]3D无损抛光设备有效

专利信息
申请号: 201922353623.8 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN211681548U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 唐志辉;黎伟;刘双龙;易小虎;乐桂英;欧阳有粮;马永恒 申请(专利权)人: 昆山明创电子科技有限公司
主分类号: B24B31/10 分类号: B24B31/10;B24B31/12;B24B1/00
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 范金荣;董建林
地址: 215300 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 无损 抛光 设备
【权利要求书】:

1.3D无损抛光设备,其特征在于,包括两个支撑架、架设在两个所述支撑架中部的导轨,所述支撑架下方固定设置磁场发生装置和驱动所述磁场发生装置的第一电机,所述导轨上滑动设置可移动磁场端,所述可移动磁场端穿设丝杠,所述丝杠端部在第二电机驱动下旋转以带动所述可移动磁场端沿所述导轨左右移动,两个所述支撑架顶部设置储液槽,所述储液槽内充满多个磁性件的抛光溶剂。

2.根据权利要求1所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁性件为磁针。

3.根据权利要求2所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁针两端部圆滑过渡。

4.根据权利要求1所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁性件为磁珠。

5.根据权利要求4所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁珠直径为0.05mm~0.5mm。

6.根据权利要求1所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述导轨截面呈倒T型,所述可移动磁场端具有与所述导轨配合的凹槽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山明创电子科技有限公司,未经昆山明创电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922353623.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top