[实用新型]3D无损抛光设备有效
申请号: | 201922353623.8 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN211681548U | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 唐志辉;黎伟;刘双龙;易小虎;乐桂英;欧阳有粮;马永恒 | 申请(专利权)人: | 昆山明创电子科技有限公司 |
主分类号: | B24B31/10 | 分类号: | B24B31/10;B24B31/12;B24B1/00 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 范金荣;董建林 |
地址: | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 无损 抛光 设备 | ||
1.3D无损抛光设备,其特征在于,包括两个支撑架、架设在两个所述支撑架中部的导轨,所述支撑架下方固定设置磁场发生装置和驱动所述磁场发生装置的第一电机,所述导轨上滑动设置可移动磁场端,所述可移动磁场端穿设丝杠,所述丝杠端部在第二电机驱动下旋转以带动所述可移动磁场端沿所述导轨左右移动,两个所述支撑架顶部设置储液槽,所述储液槽内充满多个磁性件的抛光溶剂。
2.根据权利要求1所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁性件为磁针。
3.根据权利要求2所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁针两端部圆滑过渡。
4.根据权利要求1所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁性件为磁珠。
5.根据权利要求4所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述磁珠直径为0.05mm~0.5mm。
6.根据权利要求1所述的3D无损抛光设备,其特征在于,所述导轨截面呈倒T型,所述可移动磁场端具有与所述导轨配合的凹槽。
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