[实用新型]一种掩膜板有效
申请号: | 201922365704.X | 申请日: | 2019-12-25 |
公开(公告)号: | CN210924183U | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 杨鹏;叶子敬;严帅帅 | 申请(专利权)人: | 苏州科阳光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F9/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 215143 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 | ||
1.一种掩膜板,其特征在于,包括掩膜板本体、位于所述掩膜板本体上的对位标记以及至少两组对位图案组;
所述至少两组对位图案组包括甲对位图案组和乙对位图案组;
所述甲对位图案组至少包括第一甲对位图案和第二甲对位图案,所述第一甲对位图案包括第一甲中心和第一甲边缘点,所述第二甲对位图案包括第二甲中心和第二甲边缘点;所述乙对位图案组至少包括第一乙对位图案和第二乙对位图案,所述第一乙对位图案包括第一乙中心和第一乙边缘点,所述第二乙对位图案包括第二乙中心和第二乙边缘点;
所述第一甲边缘点、所述第二甲边缘点、所述第一乙边缘点和所述第二乙边缘点均位于所述对位标记的边缘上,且所述第一甲中心和所述第二甲中心的连线经过所述对位标记的中心,所述第一乙中心和所述第二乙中心的连线经过所述对位标记的中心。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一甲中心和所述第二甲中心的连线与所述第一乙中心和所述第二乙中心的连线垂直。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述对位标记为一与晶圆等大的圆形。
4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述对位标记的中心与所述掩膜板本体的中心重合。
5.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一甲对位图案的形状包括圆形、三角形、矩形和平行四边形中的至少一种;
所述第二甲对位图案的形状包括圆形、三角形、矩形和平行四边形中的至少一种;
所述第一乙对位图案的形状包括圆形、三角形、矩形和平行四边形中的至少一种;所述第二乙对位图案的形状包括圆形、三角形、矩形和平行四边形中的至少一种。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备