[实用新型]一种凹面抛光冶具有效

专利信息
申请号: 201922370418.2 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN211249640U 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 夏永光;王芳 申请(专利权)人: 浙江星星科技股份有限公司
主分类号: B24B41/06 分类号: B24B41/06;B24B27/00;B24B29/02
代理公司: 台州市方信知识产权代理有限公司 33263 代理人: 郭斌斌
地址: 318000 浙江省台*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 凹面 抛光
【权利要求书】:

1.一种凹面抛光冶具,包括底板(1),其特征在于,本凹面抛光冶具还包括设置底板(1)上且相对于底板(1)凸起的抛光底座(2),以及设置在所述抛光底座(2)侧边的限位件(3),所述抛光底座(2)上设有防磨贴(4),且所述限位件(3)的高度大于所述抛光底座(2)与防磨贴(4)的高度之和。

2.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述底板(1)上设置有呈中空状的定位套(5),所述定位套(5)的内侧面与所述限位件(3)的外侧面抵靠。

3.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述限位件(3)包括呈环状的限位环(3a),所述限位环(3a)固定设置在所述底板(1)上,且所述限位环(3a)的内侧面与所述抛光底座(2)的外侧面形成抵靠。

4.根据权利要求2所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述限位件(3)包括设置在底板(1)上且呈环状的第一限位环(3b)以及叠加设置在第一限位环(3b)上且与所述第一限位环(3b)同轴设置的第二限位环(3c),所述第一限位环(3b)的内侧面与所述抛光底座(2)的外侧面形成抵靠。

5.根据权利要求4所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述第二限位环(3c)与所述第一限位环(3b)的外径相等,且所述第二限位环(3c)的外侧面与所述定位套(5)的内侧面抵靠。

6.根据权利要求5所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述第一限位环(3b)的横截面积大于第二限位环(3c)的横截面积,且所述第一限位环(3b)的顶面所在平面低于所述抛光底座(2)的顶面所在平面。

7.根据权利要求1至6任意一项所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述限位件(3)由硅胶材料制成。

8.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述防磨贴(4)为铁氟龙胶带。

9.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述防磨贴(4)为丁基防水胶带。

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