[实用新型]一种高纯锗用加热坩埚和直拉提纯装置有效
| 申请号： | 201922373643.1 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN211471638U | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 孔鑫燚;李万朋;许所成;许兴;马英俊;林泉 | 申请（专利权）人： | 有研光电新材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C30B29/08 | 分类号： | C30B29/08;C30B15/10;C30B15/00 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 董李欣 |
| 地址： | 065001 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 加热 坩埚 提纯 装置 | ||
1.一种高纯锗用加热坩埚，其特征在于，所述加热坩埚包括外层和内层；
所述内层为带有上沿的杯形结构，内部用于容纳锗原料，构成熔炼腔室；
所述外层呈上下开口的筒形；
所述外层套设于所述内层的外侧，且所述外层的顶部与内层的上沿密封连接；
所述外层的直径大于所述内层的直径，二者之间构成具有底部开口的容纳空间。
2.如权利要求1所述的加热坩埚，其特征在于，所述外层和内层为一体成型结构。
3.如权利要求1所述的加热坩埚，其特征在于，所述加热坩埚的材质为半导体级石英。
4.如权利要求1-3任意一项所述的加热坩埚，其特征在于，所述内层的直径为40-50mm，所述外层的直径为65-75mm。
5.如权利要求4所述的加热坩埚，其特征在于，所述内层和/或外层的壁厚度为10mm。
6.一种直拉提纯装置，其特征在于，所述直拉提纯装置包括权利要求1-5任一项所述的加热坩埚，和设置在所述加热坩埚的容纳空间中的加热器。
7.如权利要求6所述的直拉提纯装置，其特征在于，所述加热器为石墨加热器。
8.如权利要求6所述的直拉提纯装置，其特征在于，所述加热器呈顶部开口的筒形，其顶部开口通过所述底部开口插设于所述加热坩埚的容纳空间中。
9.如权利要求6所述的直拉提纯装置，其特征在于，所述加热器的直径大于所述加热坩埚内层的直径，小于所述加热坩埚外层的直径，所述加热器的高度大于内层的高度，小于外层的高度。
10.如权利要求9所述的直拉提纯装置，其特征在于，所述加热器的直径为55-70mm。
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