[实用新型]一种表面微波等离子体镀膜装置

权利要求书

1.一种表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，包括依次连通的等离子发生室、混合室和沉积室；

所述等离子体发生室为一方形腔体，其中设有2-18根平行设置的石英玻璃管，所述石英玻璃管的两端面各设有一连接口；所述等离子体发生室的两侧各设一微波发生装置，每个微波发生装置均通过一微波功率调节器连接多个同轴波导，所述同轴波导的数量与石英玻璃管的数量相等且一一连接于石英玻璃管的连接口上；所述等离子发生室的顶面上连接有工作气体进口；

所述混合室连接于等离子体发生室的下方，其两侧均设有载气进口；所述沉积室连接于混合室的下方，所述沉积室上设有真空连接口，用于连接外部的真空发生装置；所述沉积室中还设有用于沉积薄膜的基片。

2.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述等离子体发生室的顶面和侧面上均贴装有磁钢。

3.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述微波发生装置包括依次连接的微波电源、磁控管、激励腔、环流器以及阻抗调节单元。

4.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述等离子体发生室的两侧壁上均设有多个环状凸台，所述石英玻璃管的两端搁置于所述环状凸台上。

5.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述同轴波导穿过等离子体发生室的侧壁并与石英玻璃管相连，且同轴波导与等离子体发生室的侧壁之间设有密封圈。

6.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述等离子体发生室的顶壁和侧壁中均穿设有偶数根水冷散热管。

7.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述沉积室底部开口，所述开口处设有凸缘，凸缘处设有一法兰盘，法兰盘通过一顶升装置顶升，以与所述凸缘配合封闭所述沉积室；所述沉积室中还设有一承载架，所述承载架包括样品台及固定于样品台下表面的升降杆，所述升降杆固定于所述法兰盘上；所述基片设置于所述样品台上。

8.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述混合室和沉积室的侧壁上还覆盖有隔热膜。

9.如权利要求1所述的表面微波等离子体镀膜装置，其特征在于，所述等离子体发生室、混合室和沉积室均是由铝合金、不锈钢或黄铜制成的。