[实用新型]涂胶显影机清洗系统

权利要求书

1.涂胶显影机清洗系统，包括调节结构（2）、箱体（3）、工作台（9）和过滤结构（12），其特征在于：所述工作台（9）的顶端固定连接有箱体（3），且箱体（3）的内部设置有水箱（15），所述水箱（15）的顶端固定连接有管体（16），且管体（16）的外侧壁上设置有水泵（1），所述管体（16）的外侧壁上设置有调节结构（2），所述箱体（3）的一侧固定连接有传输管（4），所述箱体（3）的一侧固定连接有料辊（6），且料辊（6）的一侧固定连接有对接块（7），所述对接块（7）的外侧壁上设置有控制开关（8），所述工作台（9）的顶端设置有水槽（11），所述工作台（9）底端的两侧固定连接有支撑柱（10），所述工作台（9）的底端固定连接有过滤结构（12），且过滤结构（12）的底端固定连接有出水口（13），所述出水口（13）的底端固定连接有回流管（14）。

2.根据权利要求1所述的涂胶显影机清洗系统，其特征在于：所述调节结构（2）从左到右依次设置有粗孔（201）、转动球（202）、细孔（203）、栓块（204）、安装块（205）和挡块（206），所述安装块（205）的外侧壁上固定设置有栓块（204），且栓块（204）的一端固定连接有转动球（202）。

3.根据权利要求2所述的涂胶显影机清洗系统，其特征在于：所述转动球（202）的两侧设置有粗孔（201），所述转动球（202）的两端设置有细孔（203），所述管体（16）的内侧壁上设置有挡块（206）。

4.根据权利要求1所述的涂胶显影机清洗系统，其特征在于：所述传输管（4）的底端固定连接有喷头（5），且喷头（5）在传输管（4）的底端呈等间距排列。

5.根据权利要求1所述的涂胶显影机清洗系统，其特征在于：所述过滤结构（12）从左到右依次设置有固定杆（1201）、滤箱（1202）、活性炭滤层（1203）、滤芯（1204）、椰壳颗粒层（1205）、粗网层（1206）和细网层（1207），所述滤箱（1202）的内部设置有滤芯（1204），且滤芯（1204）的内部设置有活性炭滤层（1203），所述活性炭滤层（1203）的底端设置有椰壳颗粒层（1205），且椰壳颗粒层（1205）的底端设置有粗网层（1206），所述粗网层（1206）的底端设置有细网层（1207）。

6.根据权利要求5所述的涂胶显影机清洗系统，其特征在于：所述滤箱（1202）的外侧壁上设置有固定杆（1201），且固定杆（1201）在滤箱（1202）的外侧壁上呈对称分布。