[实用新型]一种全息光学器件加工系统有效

专利信息
申请号: 201922421405.3 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN211375204U 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 杜亮;朱耀明;周知星 申请(专利权)人: 深圳惠牛科技有限公司
主分类号: G02B27/62 分类号: G02B27/62;G02B5/32
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 刘永康
地址: 518000 广东省深圳市宝安区新安*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 全息 光学 器件 加工 系统
【权利要求书】:

1.一种全息光学器件加工系统,其特征在于,包括:计算机控制器、光路系统、运动平台以及待加工的光学基片,所述计算机控制器分别与所述光路系统和所述运动平台电连接,所述光学基片固定于所述运动平台;

所述光路系统用于产生光信号并将所述光信号传输至所述运动平台上的所述光学基片,以实现所述光学基片的曝光;所述计算机控制器用于分别向所述光路系统和所述运动平台发送光控制信号和运动控制信号;所述运动平台根据所述运动控制信号控制自身运动以改变所述光信号在所述光学基片上的曝光位置,所述光路系统根据所述光控制信号控制传输至所述光学基片上的光信号的曝光量和曝光时间,以制备不同区域光学性能可变的全息光学器件。

2.根据权利要求1所述的全息光学器件加工系统,其特征在于,所述光信号包括物光和参考光;所述光路系统包括:沿光路依次设置的激光器、第一分光器件、物光光路模块和参考光光路模块;所述激光器产生的激光经所述第一分光器件分光之后,得到两束光;所述两束光中的其中一束经所述物光光路模块形成物光并传输至所述光学基片,所述两束光中的另外一束经所述参考光光路模块形成参考光并传输至所述光学基片。

3.根据权利要求2所述的全息光学器件加工系统,其特征在于,所述物光垂直入射所述光学基片的一侧面,所述参考光以一定倾角入射所述光学基片的另一侧面,所述物光和所述参考光在所述光学基片处发生干涉,以形成所述全息光学器件。

4.根据权利要求3所述的全息光学器件加工系统,所述两束光为窄光;所述物光光路模块包括:依次设置的第一扩束器、第一准直器件、第二分光器件和第一光阑;所述物光光路模块还包括:与所述第二分光器件连接的空间光调制器;

所述第一扩束器用于将入射的窄光进行扩束,得到具有一定宽度的光;所述第一准直器件用于将所述具有一定宽度的光进行准直;所述第二分光器件用于将入射的所述具有一定宽度的光进行分光,所述空间光调制器用于根据所述光控制信号调制入射至所述第二分光器件的所述具有一定宽度的光的曝光量和曝光时间,所述第一光阑用于根据所述光控制信号控制光阑孔的大小,经调制和分光后的光线经所述第一光阑之后,形成所述物光。

5.根据权利要求4所述的全息光学器件加工系统,其特征在于,所述参考光光路模块包括:依次设置的反射器件、第二扩束器、第二准直器件、第二光阑;

所述反射器件用于改变入射的窄光的传播方向;所述第二扩束器用于将入射的窄光进行扩束,得到具有一定宽度的光;所述第二准直器件用于将所述具有一定宽度的光进行准直;所述第二光阑用于根据所述光控制信号控制光阑孔的大小,经准直后的光线经所述第二光阑之后,形成所述参考光。

6.根据权利要求5所述的全息光学器件加工系统,其特征在于,所述第一准直器件和所述第二准直器件均为透镜。

7.根据权利要求5所述的全息光学器件加工系统,其特征在于,所述第一分光器件和所述第二分光器件均为分光棱镜。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的全息光学器件加工系统,其特征在于,所述运动平台包括:平台本体以及设置于所述平台本体下方的水平方向运动电机、竖直方向运动电机和旋转电机,所述水平方向运动电机用于控制所述平台本体水平方向的运动,所述竖直方向运动电机用于控制所述平台本体竖直方向的运动,所述旋转电机用于控制所述平台本体的旋转。

9.根据权利要求8所述的全息光学器件加工系统,其特征在于,所述旋转电机用于控制所述平台本体沿垂直Z轴方向旋转或沿物光入射光轴方向旋转。

10.根据权利要求1至7中任一项所述的全息光学器件加工系统,所述光学器件为全息光栅。

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