[实用新型]铬板清洗装置

说明书

本实用新型公开的铬板清洗装置，包括斜置的放置平台，放置平台上方悬置有喷淋结构；放置平台的表面设置有固定块，固定块包括内侧边缘呈直角勾型的卡块结构和安装在卡块结构底部的滑块结构，放置平台上表面横向和纵向设置有两组相互垂直的滑槽结构，卡块结构与滑槽结构相适配；固定块至少包括两块，分置在相互垂直的一组滑槽结构上；放置平台的边缘设有导水孔；滑槽结构包括滑道和与滑道相垂直多个定位槽。通过对放置平台进行改进，设置有凸出放置平台的固定块，并且配合滑槽结构实现固定块位置的调节，可以适合不同规格尺寸的铬板使用；该铬板清洗装置安装和卸载铬板都十分方便，提高了生产效率，清洗彻底，不会造成铬层脱落。

技术领域

本实用新型涉及清洗喷淋技术领域，具体地涉及一种铬板清洗装置。

背景技术

tft—lcd是采用新材料和新工艺的大规模半导体全集成电路制造技术，是液晶、无机和有机薄膜电致发光平板显示器的基础。tft是在玻璃或塑料基板等非单晶片上（当然也可以在晶片上）通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必需的各种膜，通过对膜的加工制作大规模半导体集成电路。

铬板使用时如果清洗不干净会造成产品短路不良，处理时消耗大量时间和精力，对生产效率造成很大影响。

目前的铬板清洁处理是将铬板置于洁净平整的工作台，无尘布蘸IPA或者丙酮沿一个方向轻轻擦拭，每擦拭一次要检查无尘布表面是否干净，这种方法是人工操作，搬放时易磨损，并且清洗时需要大量的清洗液，不易回收，清洗可靠性差，一次清洁难以保证满足需求，需多次反复清洗多次，严重影响生产效率，成为产能制约。

现有的铬板清洗机清洗的清洗效果较好，但清洗不慎又会造成铬层脱落，导致铬板失效。

因此，寻找一种符合生产需求的铬板清洗装置具有巨大的实际意义。

实用新型内容

本实用新型提供一种铬板清洗装置，通过对放置平台进行改进，设置有凸出放置平台的固定块，并且配合滑槽结构实现固定块位置的调节，可以适合不同规格尺寸的铬板使用；该铬板清洗装置安装和卸载铬板都十分方便，提高了生产效率，清洗彻底，不会造成铬层脱落。

本实用新型目的通过以下技术方案实现：

公开一种铬板清洗装置，包括斜置的放置平台，所述放置平台上方悬置有喷淋结构；所述放置平台的表面设置有固定块，所述固定块包括内侧边缘呈直角勾型的卡块结构和安装在卡块结构底部的滑块结构，所述放置平台上表面横向和纵向设置有两组相互垂直的滑槽结构，所述卡块结构与滑槽结构相适配；所述固定块至少包括两块，分置在相互垂直的一组滑槽结构上；所述放置平台的边缘设有导水孔；所述滑槽结构包括滑道和与滑道相垂直多个定位槽。

本铬板清洗装置将放置平台和喷淋结构相结合，提供充足的水源，使清洗更加彻底；且放置平台设置为倾斜方式及可移动的固定块结构，使铬板更容易放置在放置平台上，固定块可以根据铬板的不同规格调整合适的距离，使得整个装置通用性强。

进一步地，所述放置平台为矩形平面板，安装在支撑架上，所述放置平台的底部边缘与水平面呈25°~55°角。此种角度的选择更加利于铬板的放置。

进一步地，所述喷淋结构包括平行于放置平台顶端的管体，所述管体上设有多个出水孔，所述管体的一侧连接抽水泵。

进一步地，所述固定块为四块，本装置使用时，所述卡块结构分置于待清洗铬板的四个角。

进一步地，所述滑块结构为倒“T”型结构。

进一步地，所述滑槽结构的滑道与所述放置平台的边缘平行。

进一步地，所述定位槽结构不完全相同，相对于放置平台上表面的横向中心轴和/或纵向中心轴对称设置。

进一步地，所述导水孔与废液收集槽相连。