[实用新型]一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统有效
| 申请号： | 201922434762.3 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN212025442U | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 王燕东;王文冲;迟力峰 | 申请（专利权）人： | 苏州驰鸣纳米技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/04 |
| 代理公司： | 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 | 代理人： | 刘慧 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 衬底 沉积 朝上 放置 有机 真空 系统 | ||
1.一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统，包括真空腔体(1)，其特征在于：所述真空腔体(1)的底部贯穿有样品架(2)，所述样品架(2)的表面与真空腔体(1)固定连接，所述样品架(2)的顶部固定连接有衬底基板(3)，所述衬底基板(3)的顶部活动连接有薄膜沉积衬底(4)，所述薄膜沉积衬底(4)的顶部活动连接有遮挡板(5)。
2.根据权利要求1所述的一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统，其特征在于：所述样品架(2)的形状为长方体，所述衬底基板(3)的形状为长方体，且样品架(2)底面的长度和宽度均小于衬底基板(3)的长度和宽度。
3.根据权利要求1所述的一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统，其特征在于：所述薄膜沉积衬底(4)的加工面方向朝向上，且薄膜沉积衬底(4)在衬底基板(3)顶部表面内，所述薄膜沉积衬底(4)在重力的作用下直接放置在衬底基板(3)上，不需要固定。
4.根据权利要求1所述的一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统，其特征在于：所述遮挡板(5)的形状为长方体，且遮挡板(5)的长度和宽度均大于衬底基板(3)的长度和宽度。
5.根据权利要求1所述的一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统，其特征在于：所述真空腔体(1)顶部的两侧均贯穿有蒸发源(6)，所述蒸发源(6)的表面与真空腔体(1)固定连接。
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