[实用新型]可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备

权利要求书

1.可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：包括沿着基材运行路径依次设置的放卷室，镀膜室，收卷室；放卷室内设有一个以上的放卷机构，镀膜室内设有镀膜源，镀膜源的喷射方向朝向基材，收卷室内设有至少一个收卷机构，沿着基材的运行路径上设有多个引导辊机构；放卷机构包括安装板，固定在安装板上的驱动电机，转动式安装在安装板上的放卷辊；卷状的基材卷绕在放卷辊上，放卷辊连接在驱动电机的输出端上；收卷机构包括承载板，固定在承载板上的动力电机，转动式安装在承载板上的收卷辊；卷状的基材卷绕在收卷辊上，收卷辊连接在动力电机的输出端上；引导辊机构包括承载座，转动式安装在承载座上的导辊轴，套装在导辊轴上的引导套组件；引导套组件包括导辊套，导辊套内部的两端均内置有轴承，轴承套装在导辊轴上。

2.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：真空卷绕镀膜设备还包括一个固定板，多个放卷机构中，每个放卷机构的驱动电机对应驱动该放卷机构的放卷辊，所有放卷机构的放卷辊的一端连接在该放卷机构的安装板上，另一端共同连接在固定板上。

3.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：真空卷绕镀膜设备还包括一个连接板；收卷机构为多个时，多个收卷机构中，每个收卷机构的动力电机对应驱动该收卷机构的收卷辊，所有收卷机构的收卷辊的一端连接在该收卷机构的承载板上，另一端共同连接在连接板上；收卷机构为一个时，收卷辊的一端连接在承载板上，另一端连接在连接板上。

4.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：引导辊机构的承载座有两个，导辊轴的两端均通过轴承安装在承载座上，引导套组件至少有一个。

5.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：镀膜室内设置或者不设置镀膜辊，镀膜室内设置镀膜辊时，所有的基材共同绕过该镀膜辊，在绕入和绕出镀膜辊处设置有引导辊机构。

6.按照权利要求5所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：在镀膜室内不设置镀膜辊时，所有镀膜源位于基材的同一侧或者基材的两侧均设有镀膜源。

7.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：在收卷室和放卷室内均设有引导辊机构，镀膜室内设置或不设置引导辊机构。

8.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：镀膜源为磁控靶、蒸发源、电弧源或者PECVD源。

9.按照权利要求1所述的可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备，其特征在于：基材为有机薄膜、金属卷材、布类、海绵或超薄玻璃。