[实用新型]一种高真空造粒设备

权利要求书

1.一种高真空造粒设备，其特征在于：包括控制柜(1)与机箱(2)，所述机箱(2)位于控制柜(1)上方位置，所述机箱(2)前端面左侧位置设置有熔炼室(5)，所述熔炼室(5)右侧设置有控制面板(4)，所述熔炼室(5)下方设置有冷却室(7)，所述冷却室(7)下方设置有冷却桶(9)，所述冷却室(7)下方连接设置有开关(8)，所述熔炼室(5)顶部设置有外接圆板(11)，所述外接圆板(11)顶部设置有目镜(6)，所述外接圆板(11)外圈底部位置设置有固定圆盘(10)，所述外接圆板(11)内设置有可调节的圆形套管(13)，所述固定圆盘(10)内在圆形套管(13)两侧设置有可调节的防爆夹板(12)。

2.根据权利要求1所述的一种高真空造粒设备，其特征在于：所述控制柜(1)底部设置有调整脚(3)，所述冷却桶(9)下方设置有固定板(27)，所述固定板(27)尾部连接到控制柜(1)前端面，所述外接圆板(11)通过焊接固定到熔炼室(5)顶部，所述外接圆板(11)内设置有固定圆槽(14)，所述圆形套管(13)中部设置有主圆槽(18)，所述主圆槽(18)内中部位置设置有内镜片(19)。

3.根据权利要求2所述的一种高真空造粒设备，其特征在于：所述目镜(6)中部设置有副圆槽(28)，所述副圆槽(28)内壁之间设置有外镜片(29)，所述内镜片(19)与外镜片(29)直径相同，所述目镜(6)外圈底部位置设置有螺纹(25)，所述外接圆板(11)顶部对应螺纹(25)设置有螺孔(26)。

4.根据权利要求3所述的一种高真空造粒设备，其特征在于：所述圆形套管(13)头部两侧位置设置有滑杆(20)，所述固定圆槽(14)内壁对应滑杆(20)设置有矩形块(21)，所述矩形块(21)上端面对应滑杆(20)从前往后设置有滑槽(22)，所述滑杆(20)头部伸入滑槽(22)一端，所述滑槽(22)另一端设置有限位弹簧(23)，所述限位弹簧(23)头部连接到滑杆(20)。

5.根据权利要求1所述的一种高真空造粒设备，其特征在于：所述固定圆盘(10)两端均设置有凹槽(15)，所述防爆夹板(12)底部伸入凹槽(15)内，所述防爆夹板(12)位于圆形套管(13)尾部两侧位置，所述防爆夹板(12)靠近圆形套管(13)一侧端面设置有密封垫(24)。

6.根据权利要求5所述的一种高真空造粒设备，其特征在于：所述凹槽(15)底部设置有垫板(16)，所述垫板(16)上方设置有压力弹簧(17)，所述压力弹簧(17)头部连接到防爆夹板(12)底部。