[实用新型]一种低氧气调装置

权利要求书

1.一种低氧气调装置，其特征在于，包括：

气密围护结构；

除氧剂；

干燥剂，能吸收除氧剂吸氧过程中释放的水气；以及

调湿剂，其当湿度超过预定范围时吸湿，并且当湿度低于预定范围时放湿；

其中，所述除氧剂、干燥剂和/或调湿剂都置于所述气密围护结构中，所述调湿剂和所述干燥剂的比例基于所述气密围护结构设定的湿度范围及精度要求。

2.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，所述气密围护结构的体积0.001～100立方米。

3.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，所述气密围护结构的换气率不高于0.5d^-1。

4.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，所述气密围护结构具有压力平衡功能，能够平衡围护结构内气压变化。

5.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，所述气密围护结构为不包括气调气体进入口的气密围护结构。

6.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，所述除氧剂与所述干燥剂和/或调湿剂不接触放置。

7.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，所述气密围护结构包括用于放置待低氧气调物体的镂空或编织的隔板。

8.根据权利要求7所述的低氧气调装置，其特征在于，所述除氧剂、干燥剂和/或调湿剂放置于所述隔板下方或者放置于所述隔板透气夹层中。

9.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，所述除氧剂、干燥剂和/或调湿剂放置于所述气密围护结构的顶部、底部、侧面和/或中部的一者或多者中。

10.根据权利要求1所述的低氧气调装置，其特征在于，进一步包括净化剂，其与所述除氧剂、干燥剂和/或调湿剂共同放置在同一围护结构内。