[实用新型]气体吸收装置有效
申请号: | 201922493945.2 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN211367740U | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 梁军;尹雄威;韦天贵;黄文涛;梁民 | 申请(专利权)人: | 深圳市祺鑫环保科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C25C7/06;B01D53/18 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 魏兰 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝安区福海*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 吸收 装置 | ||
本实用新型公开一种气体吸收装置,包括壳体、射流器及喷淋器,所述壳体内形成有第一腔室和第二腔室,所述射流器具有射流端,所述射流端设于所述第一腔室的顶部,用于将外部气体和外部液体射入所述第一腔室;所述第一腔室与所述第二腔室的底部连通设置,用于将射入所述第一腔室的外部气体和外部液体导入所述第二腔室;所述喷淋器设于所述第二腔室的顶部,用于向所述第二腔室内喷洒喷淋液。可以理解的,本实用新型的技术方案能够实现对氯气的充分吸收,在减少氯气的排放的同时,通过氯气替代氧化剂的使用,降低了蚀刻成本。
技术领域
本实用新型涉及印制板蚀刻技术领域,特别涉及一种气体吸收装置。
背景技术
蚀刻液的蚀刻原理是通过铜离子在强氧化条件下,不断氧化覆铜板表面的铜箔,以此实现对覆铜板的蚀刻。在此氧化还原反应过程中,生成的亚铜离子又需要被氧化剂氧化成铜离子,使得铜离子继续蚀刻铜箔。随着蚀刻反应的进行,蚀刻液中的铜离子浓度会不断增大。当蚀刻液中的铜离子浓度达到一定程度后,为了保证蚀刻效果,高铜含量的蚀刻液需要被排出,这样就形成了蚀刻废液。
蚀刻废液中含有大量的铜离子和氯离子,在电解提铜工艺中,蚀刻废液液中的铜离子在阴极区被还原成铜单质,铜单质沉积于阴极区,以此达到提取蚀刻废液中铜离子的效果。在此电解反应过程中,氯离子在阳极区被氧化成氯气。这样,随着电解提铜工艺的进行,阳极区产生大量的氯气。然而,氯气是一种剧毒气体,排放到大气中会造成严重危害。
上述内容仅用于辅助理解本申请的技术方案,并不代表承认上述内容是现有技术。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是提供一种气体吸收装置,旨在实现对氯气的充分吸收,通过氯气替代氧化剂的使用,降低蚀刻成本,减少氯气的排放。
为实现上述目的,本实用新型提出的一种气体吸收装置,包括壳体、射流器及喷淋器,所述壳体内形成有第一腔室和第二腔室,所述射流器具有射流端,所述射流端设于所述第一腔室的顶部,用于将外部气体和外部液体射入所述第一腔室;
所述第一腔室与所述第二腔室的底部连通设置,用于将射入所述第一腔室的外部气体和外部液体导入所述第二腔室;
所述喷淋器设于所述第二腔室的顶部,用于向所述第二腔室内喷洒喷淋液。
可选地,所述壳体包括喷淋塔和设于所述喷淋塔下方的喷淋缸,所述喷淋塔的底部与所述喷淋缸的顶部连通并形成所述第二腔室,所述喷淋塔的顶部的内部空间安装有所述喷淋器,所述第一腔室与所述喷淋缸连通。
可选地,所述壳体还包括密封盖和设于所述密封盖下方的射流缸,所述密封盖盖合于所述射流缸的顶部并与所述射流缸围合形成所述第一腔室,所述密封盖的内壁安装有所述射流器的出液端,所述射流缸与所述喷淋缸连通。
可选地,所述喷淋缸的侧壁设有流体出口。
可选地,所述喷淋缸与所述喷淋器之间设有若干沿高度方向间隔设置的过滤网。
可选地,所述喷淋塔的顶部设有与所述第二腔室连通的排气口。
可选地,所述喷淋缸与所述喷淋塔为一体成型的一体结构。
可选地,所述喷淋器包括相连通的进液管和喷淋管,所述进液管的进液端设于所述壳体的顶壁,用于与外部喷淋液源连通,所述喷淋管表面设有若干间隔分布的喷液口。
可选地,所述气体吸收装置还包括管道,所述管道的一端与外部液体源连通设置,另一端与所述射流器的进液端连通设置,所述喷淋器的进液端连通于所述管道。
可选地,所述气体吸收装置还包括射流泵,所述射流泵安装于所述外部液体源与所述喷淋器之间的所述管道上。
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