[实用新型]一种治具有效
申请号: | 201922500436.8 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN212442465U | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 张续朋;杨彦伟;陆一锋 | 申请(专利权)人: | 芯思杰技术(深圳)股份有限公司 |
主分类号: | B08B13/00 | 分类号: | B08B13/00;B25B11/00 |
代理公司: | 深圳智汇远见知识产权代理有限公司 44481 | 代理人: | 李雪鹃 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 | ||
本实用新型公开了一种治具,属于半导体技术领域。本实用新型的治具包括上端开口设置的容置腔体,所述容置腔体呈方形,所述容置腔体的第一面的内壁上设有若干沿上下方向设置的第一卡槽,所述容置腔相对的第二面的内壁上设有若干与所述第一卡槽一一对应的第二卡槽,所述容置腔体的下端设置有第一限位板与第二限位板,所述第一限位板分别与若干所述第一卡槽的末端相连,所述第二限位板分别与若干所述第二卡槽的末端相连。本实用新型的治具可以对批量的光刻掩膜版进行清洗,提高了光刻掩膜版的清洗效率。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,具体涉及治具。
背景技术
光刻掩膜版是一种用于半导体芯片生产的重要夹具,光刻掩膜版需要定期进行清洗,以保证光刻掩模版的洁净,避免对芯片造成污染,目前,光刻掩膜版的清洗主要通过逐个对单个光刻掩模版进行清洗。随着芯片的快速发展,大批量生产时每天会用到大量的光刻掩膜版,单个清洗已经不能满足生产要求,光刻掩膜版清洗比较繁琐耗时,并且清洗质量直接影响生产质量。
实用新型内容
为了解决现有技术的不足或者部分地解决现有技术的不足,本实用新型实施例提供一种治具,可以大批量对光刻掩模版进行清洗。
本实用新型实施例提供一种治具,包括上端开口设置的容置腔体,所述容置腔体呈方形,所述容置腔体的第一面的内壁上设有若干沿上下方向设置的第一卡槽,所述容置腔相对的第二面的内壁上设有若干与所述第一卡槽一一对应的第二卡槽,所述容置腔体的下端设置有第一限位板与第二限位板,所述第一限位板分别与若干所述第一卡槽的末端相连,所述第二限位板分别与若干所述第二卡槽的末端相连。
可选地,所述容置腔体的第三面的内壁上设有若干沿上下方向设置的第三卡槽,所述容置腔相对的第四面的内壁上设有若干与所述第三卡槽一一对应的第四卡槽,所述容置腔体的下端设置有第三限位板与第四限位板,所述第三限位板分别与若干所述第三卡槽的末端相连,所述第四限位板分别与若干所述第四卡槽的末端相连。
可选地,所述容置腔体的下端开口设置。
可选地,所述容置腔体的下端并排设置有第一加强板、第二加强板,所述第一加强板的两端分别与所述第一限位板、所述第二限位板相连,所述第一加强板与所述第三限位板之间通过第一加强横板相连,所述第二加强板的两端分别与所述第一限位板、所述第二限位板相连,所述第二加强板与所述第四限位板之间通过第二加强横板相连。
可选地,所述容置腔体的各面上设有若干连通所述容置腔体的内部的通孔或通槽。
可选地,所述容置腔体的上端设置有沿垂直所述容置腔体的各面向外延伸的围板。
可选地,还包括提手,所述提手的一端与所述围板相连。
可选地,所述提手呈U形结构,所述提手的两个自由端的端部设置有提拉块,所述提拉块用于在提拉所述容置腔体时与所述围板的底面抵持。
可选地,所述提手的两个自由端之间设有呈折线形的连杆,所述连杆的两端分别与所述提手的两个自由端相连。
可选地,所述提手与所述连杆为弹性塑料材质制得。
本实用新型的有益效果:
本实用新型提供一种治具,包括上端开口设置的容置腔体,所述容置腔体呈方形,所述容置腔体的第一面的内壁上设有若干沿上下方向设置的第一卡槽,所述容置腔相对的第二面的内壁上设有若干与所述第一卡槽一一对应的第二卡槽,所述容置腔体的下端设置有第一限位板与第二限位板,所述第一限位板分别与若干所述第一卡槽的末端相连,所述第二限位板分别与若干所述第二卡槽的末端相连。本实用新型的治具可以批量将多个光刻掩模版分别放置在容置腔体内,通过第一卡槽、第二卡槽、第一限位板、第二限位板的位置进行放置,以实现大批量清洗光刻掩模版的效果。
附图说明
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