[实用新型]射频离子源系统及离子源设备有效
| 申请号： | 201922501752.7 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN210866112U | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 刘伟基;冀鸣;赵刚;易洪波;曾文华;刘运鸿;吴秋生 | 申请（专利权）人： | 中山市博顿光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/32;H01J37/09 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 刘延喜 |
| 地址： | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 射频 离子源 系统 设备 | ||
1.一种射频离子源系统，其特征在于，包括：设于真空腔室外的射频匹配网络，以及置于真空腔室内的射频离子源和屏蔽外壳；
所述射频离子源连接有用于对射频线圈进行水冷的水冷负载输入线以及与射频匹配网络连接的射频负载线；
所述射频离子源的底部与所述屏蔽外壳的一端通过硬连接方式连接；所述屏蔽外壳另一端与安装在真空腔室上的真空法兰接头连接；
所述射频负载线和所述水冷负载输入线通过所述屏蔽外壳内部贯穿到真空腔室的外部；
所述屏蔽外壳用于固定所述射频离子源以及对所述射频负载线进行屏蔽保护。
2.根据权利要求1所述的射频离子源系统，其特征在于，所述屏蔽外壳设计为圆筒形，所述屏蔽外壳与射频离子源的底部和真空腔室上的真空法兰之间密封连接。
3.根据权利要求1所述的射频离子源系统，其特征在于，所述屏蔽外壳一端通过金属固定座与所述射频离子源的底部连接。
4.根据权利要求3所述的射频离子源系统，其特征在于，所述射频匹配网络内置于屏蔽盒内，所述屏蔽盒与真空腔室通过硬连接方式连接。
5.根据权利要求4所述的射频离子源系统，其特征在于，所述屏蔽盒通过屏蔽管道与真空腔室的真空法兰对接。
6.根据权利要求1所述的射频离子源系统，其特征在于，所述射频匹配网络采用Π型结构的匹配网络；
所述射频匹配网络的输入端连接射频源，所述射频匹配网络的输出端连接至所述射频离子源的射频线圈一端；所射频线圈的另一端接地。
7.根据权利要求6所述的射频离子源系统，其特征在于，所述射频匹配网络包括电感L、电容Cload和电容Ctune，其中，所述电感L串联在射频负载线上，所述电容Cload和电容Ctune分别连接所述电感L两端和接地之间。
8.一种射频离子源系统，其特征在于，包括：置于真空腔室内的射频离子源、射频匹配网络以及屏蔽外壳；
所述射频离子源和射频匹配网络设于一体化外壳内，所述射频匹配网络通过射频负载线连接射频线圈，所述射频匹配网络通过射频输入传输线连接射频源；
所述射频离子源连接有用于对射频线圈进行水冷的水冷负载输入线；
所述一体化外壳的底部与所述屏蔽外壳的一端通过硬连接方式连接；所述屏蔽外壳另一端与安装在真空腔室上的真空法兰接头连接；
所述射频输入传输线和所述水冷负载输入线通过所述屏蔽外壳内部贯穿到真空腔室的外部；
所述屏蔽外壳用于固定所述射频离子源以及对所述射频输入传输线进行屏蔽保护。
9.根据权利要求8所述的射频离子源系统，其特征在于，所述射频匹配网络采用Π型结构的匹配网络；
所述射频匹配网络与所述射频线圈的接地端连接在所述一体化外壳上。
10.一种离子源设备，其特征在于，包括：权利要求1-9任一项所述的射频离子源系统以及真空腔室。
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