[发明专利]具有p偏振辐射分量的平视显示器(HUD)的投影装置有效
申请号: | 201980001097.9 | 申请日: | 2019-02-04 |
公开(公告)号: | CN110520782B | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | K.菲舍尔;D.舍费尔;R.齐默曼;V.舒尔茨 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
主分类号: | G02B27/01 | 分类号: | G02B27/01;B32B17/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘维升;黄念 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 偏振 辐射 分量 平视 显示器 hud 投影 装置 | ||
1.用于平视显示器(HUD)的投影装置,其至少包括
- 复合玻璃板(10),其包括通过热塑性中间层(3)相互接合的外玻璃板(1)和内玻璃板(2),并且具有上边缘(O)和下边缘(U)和HUD-区域(B);
- 在外玻璃板(1)或内玻璃板(2)的朝向中间层(3)的表面(II、III)上或在中间层(3)内的导电涂层(20);和
- 指向HUD-区域(B)的投影器(4);
其中投影器(4)的辐射具有至少一个p偏振分量,其中投影器(4)的总辐射中的p偏振辐射分量为20%至80%,且
其中在400nm至650nm的光谱范围内,导电涂层(20)对于p偏振辐射仅具有单个局部反射最大值,其位于510nm至550nm的范围内。
2.根据权利要求1的投影装置,其中在400nm至650nm的光谱范围内,对于p偏振辐射的局部反射最大值的反射率和出现的最小反射率之间的差为最高10%。
3.根据权利要求2的投影装置,其中在400nm至650nm的光谱范围内,对于p偏振辐射的局部反射最大值的反射率和出现的最小反射率之间的差为最高8%。
4.根据权利要求1至3任一项的投影装置,其中在450nm至600nm的光谱范围内,对于s偏振辐射的反射率是基本恒定的,以使得出现的最大反射率和平均值之间的差以及出现的最小反射率和平均值之间的差为最高5%。
5.根据权利要求4的投影装置,其中出现的最大反射率和平均值之间的差以及出现的最小反射率和平均值之间的差为最高3%。
6.根据权利要求5的投影装置,其中出现的最大反射率和平均值之间的差以及出现的最小反射率和平均值之间的差为最高1%。
7.根据权利要求1至3任一项的投影装置,其中投射器(4)的总辐射中的p偏振辐射分量为50%至80%。
8.根据权利要求1至3任一项的投影装置,其中导电涂层(20)包括至少四个导电层(21),所述导电层各自布置在两个介电层或层序列之间。
9.根据权利要求8的投影装置,其中导电层(21)基于银形成,并且各自具有5至15nm的层厚度,其中所有导电层(21)的总层厚度为20nm至50nm。
10.根据权利要求8的投影装置,其中每个介电层序列包括抗反射层(22)且其中
- 在第一导电层(21.1)下方的抗反射层(22.1)的厚度为15nm至25nm,
- 第一和第二导电层(21.1、21.2)之间的抗反射层(22.2)的厚度为25至35nm,
- 第二和第三导电层(21.2、21.3)之间的抗反射层(22.3)的厚度为45nm至55nm,
- 第三和第四导电层(21.3、21.4)之间的抗反射层(22.4)的厚度为15nm至25nm,并且
- 第四导电层(21.4)上方的抗反射层(22.5)的厚度为8nm至18nm。
11.根据权利要求8的投影装置,其中布置在两个导电层(21)之间的所有抗反射层(22.2、22.3、22.4)被划分成折射率小于2.1的介电层(22a)和折射率大于或等于2.1的光学高折射率层(22b)。
12.根据权利要求11的投影装置,其中所述介电层(22a)基于氮化硅。
13.根据权利要求12的投影装置,其中所述光学高折射率层(22b)基于硅-金属-混合氮化物。
14.根据权利要求13的投影装置,其中所述硅-金属-混合氮化物是氮化硅锆或氮化硅铪。
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