[发明专利]复合辐射制冷膜、复合辐射制冷膜材料及其应用

权利要求书

1.一种复合辐射制冷膜，其特征在于：包括顶层以及设于所述顶层下方的反射层，所述顶层的材料包括一种或多种聚合物，所述聚合物在7μm~14μm波段具有不低于80%的发射率；

所述顶层包括靠近所述反射层的第一发射层以及远离所述反射层的第二发射层，所述第一发射层的材料包括第一聚合物，所述第一发射层还包括多个第一泡孔，该多个第一泡孔分布于所述第一聚合物中，所述第二发射层的材料包括第二聚合物，所述第二发射层还包括多个第二泡孔，该多个第二泡孔分布于所述第二聚合物中，所述第一泡孔的孔径为1μm~20μm，所述第二泡孔的孔径为1nm~200nm；

其中，所述第一发射层还包括第一添加剂，所述第一添加剂嵌置于至少部分所述第一泡孔内，和/或，所述第二发射层还包括第二添加剂，所述第二添加剂嵌置于至少部分所述第二泡孔内。

2.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一泡孔在所述第一发射层中的体积分数为1%至20%，所述第二泡孔在所述第二发射层中的体积分数为1%至20%。

3.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一添加剂的粒径为1μm~20μm；并且/或，

所述第二添加剂的粒径为1nm~200nm。

4.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一添加剂在第一发射层中的体积分数为0~20%，所述第二添加剂在所述第二发射层中的体积分数为0~20%。

5.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一添加剂和所述第二添加剂分别包括无机填料，所述无机填料选自玻璃微珠、陶瓷微珠中的至少一种；及/或，

所述第一添加剂和所述第二添加剂分别包括有机填料，所述有机填料选自含有C-O、C-Cl、C-F、C-N、C-Si、Si-O官能团的聚合物中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述有机填料选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯、全氟乙烯丙烯共聚物、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于所述第一添加剂和所述第二添加剂分别包括有机填料，所述有机填料选自聚4-甲基戊烯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯中至少一种。

8.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一聚合物选自聚4-甲基戊烯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯中的至少一种，所述第二聚合物选自丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、含氟树脂中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一聚合物选自含有C-O、C-Cl、C-F、C-N、C-Si、Si-O官能团的聚合物中的至少一种。

10.根据权利要求9所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一聚合物包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯、全氟乙烯丙烯共聚物、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第二发射层远离所述第一发射层的一侧表面分布有凸部。

12.根据权利要求11所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述凸部的高度为1μm至100μm。

13.根据权利要求1所述的复合辐射制冷膜，其特征在于，所述第一发射层的厚度为10μm~300μm，所述第二发射层的厚度为5μm~150μm。