[发明专利]显示基板母板的制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板母板，包括位于有机衬底上的多个显示单元和位于相邻显示单元之间的切割区域，所述切割区域内包括有机衬底、以及覆盖所述有机衬底的无机膜层。

2.根据权利要求1所述的显示基板母板，其中，所述切割区域内无机膜层的总厚度处于200-400nm的范围内。

3.根据权利要求1所述的显示基板母板，其中，所述显示基板母板还包括位于所述显示单元和所述切割区域之间的边框区域，所述边框区域内的无机膜层包括位于所述有机衬底上的阻隔层，所述切割区域内的无机膜层包括位于所述有机衬底上的部分阻隔层。

4.根据权利要求3所述的显示基板母板，其中，所述切割区域内的部分阻隔层的厚度小于所述边框区域内的阻隔层的厚度。

5.根据权利要求4所述的显示基板母板，其中，所述切割区域内的部分阻隔层的厚度处于200-400nm的范围内。

6.根据权利要求3所述的显示基板母板，其中，阻隔层在切割区域与边框区域的边界处为台阶形状。

7.根据权利要求3所述的显示基板母板，其中，所述边框区域内的无机膜层还包括依次位于所述阻隔层上的缓冲层、薄膜晶体管阵列层中的第一无机膜层和保护层。

8.根据权利要求7所述的显示基板母板，其中，所述边框区域内的无机膜层的总厚度处于1700-2100nm的范围内，所述切割区域内的部分阻隔层的厚度处于200-400nm的范围内。

9.根据权利要求7所述的显示基板母板，其中，所述边框区域内的所述第一无机膜层在所述有机衬底上的正投影区域位于所述边框区域内的所述缓冲层在所述有机衬底上的正投影区域内部。

10.根据权利要求7所述的显示基板母板，其中，所述边框区域内的所述保护层在所述有机衬底上的正投影区域位于所述边框区域内的所述第一无机膜层在所述有机衬底上的正投影区域内部。

11.根据权利要求3所述的显示基板母板，其中，所述边框区域内的无机膜层还包括依次位于所述阻隔层上的缓冲层、薄膜晶体管阵列层中的第一无机膜层、保护层和触控结构中的第二无机膜层，所述切割区域内的无机膜层包括位于所述有机衬底上的部分阻隔层。

12.根据权利要求11所述的显示基板母板，其中，所述边框区域内的无机膜层的总厚度处于2230-2630nm的范围内，所述切割区域内的部分阻隔层的厚度处于200-400nm的范围内。

13.根据权利要求11所述的显示基板母板，其中，所述边框区域内的所述第二无机膜层在所述有机衬底上的正投影区域位于所述边框区域内的所述保护层在所述有机衬底上的正投影区域内部。

14.根据权利要求1所述的显示基板母板，其中，所述有机衬底包括第一有机层、第二有机层、以及位于所述第一有机层和所述第二有机层之间的无机材料层，所述第二有机层位于所述多个显示单元与所述第一有机层之间。

15.根据权利要求1所述的显示基板母板，其中，所述有机衬底为柔性衬底基板。

16.一种显示基板母板的制作方法，包括：

在有机衬底上依次形成多个功能膜层，其中，在所述多个功能膜层中无机膜层的形成过程中包括采用刻蚀工艺去除所述显示基板母板的切割区域内无机膜层的至少部分厚度，使得形成发光元件和封装层后的显示基板母板在所述切割区域内的无机膜层的总厚度处于200-400nm的范围内。